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吉致电子抛光材料 源头厂家
25年 专注CMP抛光材料研发与生产

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抛光速率高具有良好的切削力,提高抛光效率
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抛光效果好分散性好、乳液均一,提高抛光精度
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安全环保不含任何硫、磷、氯添加剂,性能稳定
对环境无污染
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适用范围广金属、光电、半导体、硬盘、显示器、
陶瓷
等行业

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抛光速率高切削力快,10分钟抛光到位
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抛光效果好无桔皮、无麻点、无残留刀痕
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使用寿命长相当于国产抛光垫寿命的1.5倍
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适用范围广广泛适用于金属、光电、半导体、硬盘、显示器、
陶瓷等行业

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品牌企业,抛光行业前行者Brand enterprise, polishing industry leader
  • 19年倾心专注化学机械抛光耗材领域,行业经验丰富
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  • 高品质品牌,产品遍销各国,500强青睐品牌
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行业应用案例 / Industry Case

吉致电子--CMP不锈钢表面快速抛光

吉致电子--CMP不锈钢表面快速抛光

不锈钢获取高质量的镜面的传统工艺主要采用的抛光技术:电解抛光、化学抛光和机械抛光。…

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氧化铝陶瓷抛光液镜面抛光

氧化铝陶瓷抛光液镜面抛光

  氧化铝陶瓷片的表面抛光具有一定难度,原因有两个,一是氧化铝材质硬度较高,难…

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智能手表不锈钢后盖抛光

智能手表不锈钢后盖抛光

智能手表后盖不锈钢抛光,需要用到CMP工艺的粗抛和精抛。搭配吉致电子抛光液和抛光垫使…

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碳化硅SiC抛光工艺

碳化硅SiC抛光工艺

  根据半导体行业工艺不同,CMP抛光液可分为介质层化学机械抛光液、阻挡层化学机…

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客户感言/ Testimonials

DPC研磨液----陶瓷覆铜板研磨液抛磨效果

DPC研磨液----陶瓷覆铜板研磨液抛磨效果

我司是做陶瓷覆铜板的,做的是DPC工艺。板材对粗糙度和平面度有严格要求,搭配吉致电子生产的研磨垫、研磨液抛光液效果很好,可以达到我司要求,为了回馈贵司免费提供我司抛光液样品,我分享两张…

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解决抛光难题-----吉致电子陶瓷基板抛光液

解决抛光难题-----吉致电子陶瓷基板抛光液

  陶瓷基板厂家陈总感言:  ——我们是做氧化铝、氮化铝、氮化硅陶瓷基板的厂家,这些陶瓷板的硬度都是比较高的,我们对板子的RA表面粗糙度有要求,试过好多种抛光工艺,最…

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半导体抛光液国产平替----射频滤波器抛光液

半导体抛光液国产平替----射频滤波器抛光液

  我们是广东一家半导体厂商,主要是做射频滤波器件的,制程其中有一道CMP工艺要用到抛光液等耗材。  近几年随着国家半导体事业的发展,很多物料遭受国外卡脖子限制,就算能买回来不仅…

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荣誉资质 / Honours

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走进吉致 / ABOUT US

吉致——我国化学机械抛光耗材优良企业!

吉致电子科技有限公司创始于1997年,现已经有19年的研发经验,专注于研发化学机械抛光耗材的领域,吉致主要研发两大类产品有“抛光垫”“抛光液”。产品广泛应用于金属,光电,半导体,陶瓷,硬盘面板显示器等需要精密研磨抛光的行业,广泛用于平面抛光领域。现已跟...

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吉致动态 / 行业资讯

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常见问题解答 /FAQ's

CMP设备及耗材对半导体硅片抛磨有影响吗?
CMP设备及耗材对工艺效果影响吗?答案是:有关键影响。CMP工艺离不开设备机台及耗材,其中耗材包括抛光垫和抛光液。影响CMP效果主要因素如下...
什么是SIC碳化硅衬底的常规双面磨工艺
碳化硅SIC研磨工艺是去除切割过程中造成碳化硅晶片的表面刀纹以及表面损伤层,修复切割产生的变形。由于SiC的高硬度的特性,CM{研磨过程中必...
CMP制程中抛光垫的作用有哪些?
  CMP技术是使被抛光材料在化学和机械的共同作用下,材料表面达到所要求的平整度的一个工艺过程。抛光液中的化学成分与材料表面进行化...
CMP化学机械抛光在半导体领域的重要作用
  化学机械抛光(CMP)是半导体晶圆制造的关键步骤,这项工艺能有效减少和降低晶圆表面的不平整,达到半导体加工所需的高精度平面要求...
第三代半导体--碳化硅和氮化镓的区别
  随着国家对第三代半导体材料的重视,近年来我国半导体材料市场发展迅猛,其中以碳化硅SiC与氮化镓NaG为主的材料备受关注,两者经...
蓝宝石衬底抛光液--纳米氧化铝抛光液/研磨液
  氧化铝抛光液在LED行业的应用广泛,如蓝宝石衬底的CMP抛光,为避免大粒径磨料对工件造成划伤,通常选用粒径为50∼20...
半导体抛光中铜抛光液和钨抛光液的区别
  常用的半导体抛光液,按抛光对象的不同分W钨抛光液、CU铜抛光液、氧化层抛光液、STI抛光液等。其中铜抛光液slurry主要应用...
打磨碳化硅需要哪种抛光垫?
  打磨碳化硅需要哪种抛光垫?  打磨碳化硅衬底分研磨和抛光4道工序:粗磨、精磨、粗抛、精抛。抛光垫的选择根据CMP工艺...