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CMP金刚石悬浮液/研磨液的特点及应用

文章出处:责任编辑:人气:-发表时间:2023-03-03 14:01【

吉致电子金刚石研磨液产品特点:

(1)磨料类型多样化,包含单晶、多晶、类多晶及纳米级金刚石等;

(2)金刚石悬浮液包含水性、油性及乳化型;

(3)金刚石研磨液粘度可调整,包含低粘度、中等粘度和高粘度;

金刚石悬浮液研磨液.jpg

吉致电子金刚石悬浮液/研磨液应用领域:

1、半导体晶片抛光液CMP加工:蓝宝石衬底、碳化硅、氮化镓等半导体晶片;

2、抛光液陶瓷加工:陶瓷指纹识别片、氧化锆陶瓷手机后壳及其它功能陶瓷;

3、抛光液用于金属材料加工:不锈钢、铝合金、钛合金、合金铜及其它金属材料。

吉致电子CMP抛光液研发生产厂家,产品质量和效果媲美进口slurry,CMP抛光液粒度规格可根据客户要求定制。

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