您好,欢迎来到吉致电子科技有限公司官网!
收藏本站|在线留言|网站地图

吉致电子抛光材料 源头厂家
25年 专注CMP抛光材料研发与生产

订购热线:17706168670
热门搜索: 阻尼布抛光垫复合抛光皮复合抛光垫粗抛皮粗抛垫
吉致电子专注金属抛光、陶瓷抛光、半导体抛光、硬盘面板抛光
当前位置:首页» 吉致动态 » 吉致电子纳米氧化硅抛光液的特点

吉致电子纳米氧化硅抛光液的特点

文章出处:责任编辑:人气:-发表时间:2022-08-19 15:29【

高纯纳米抛光液700.jpg

吉致电子纳米氧化硅抛光液的特点:

1,可提高工件抛光速率和平坦度加工质量,氧化硅抛光液采用高纯纳米二氧化硅(SiO2)磨料及多种复合材料配置而成,不会对工件造成物理损伤,抛光率高。

2,利用均匀分散的胶体二氧化硅粒子颗粒达到高速抛光的目的。

3,硅溶胶纯度高,抛光液不腐蚀设备,无毒无害使用安全性能高。

4,CMP抛光液可实现工件的高平坦化加工。

5,有效减少抛光后的表面划痕,降低表面粗糙度。

吉致电子通过科学工艺分散均匀的氧化硅颗粒,得到均匀分散的纳米抛光液,具有高强度、高附着力、成膜性好、高渗透、高耐磨性等特点,是一种性能优良的CMP技术用的抛光材料。采购CMP抛光液认准吉致电子抛光液生产厂家

本文由无锡吉致电子科技原创,版权归无锡吉致电子科技,未经允许,不得转载,转载需附出处及原文链接。http://www.jzdz-wx.com/

无锡吉致电子科技有限公司

联系电话:17706168670

邮编:214000

地址:江苏省无锡市新吴区行创四路19-2

相关资讯