吉致电子抛光材料 源头厂家
25年 专注CMP抛光材料研发与生产

钨（W）抛光液·参数吉致电子，W SLURRY 可定制·速率高·效果好·专利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

产品名称：钨抛光液/WCMP研磨液/Wslurry/半导体抛光液

钨W抛光液作用: 吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO₂水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点

在金属钨（W）的CMP工艺中，可以分为两种应用场景：一种是作为上下Layer的连接导线，另一种则是在先进工艺中作为金属栅极（Metal gate）。无论是哪种应用场景，CMP工艺流程基本相同。

钨CMP抛光液它主要用于金属钨（W）的CMP抛光，以达到精准的表面平整度和厚度控制。半导体W CMP抛光液通常包含了一些化学物质，如氧化剂、酸、碱等，以及磨料等。这些化学物质和磨料的组合可以提供高选择比和低表面粗糙度的抛光效果。在半导体制造中，W CMP抛光液广泛用于金属钨的制造，如金属钨的连接导线和金属栅极等。

我司产品金属离子含量低，易清洗，可用于更先进的WCMP。

吉致电子钨抛光液/W Slurry抛光液储存方法：

通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射及冻结，零度以下因产生不可再分散结块而失效。

吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：

吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。

本土化生产的优势使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。

吉致电子CMP抛光耗材适用范围

吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺和先进的生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

吉致电子研发团队--15年经验CMP抛光液配方工程师，为您攻克抛光难题！

无锡吉致电子科技有限公司

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