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氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液
磨料类型：半导体cmp抛光液slurry
磨料粒径：纳米级SiO2
Oxide氧化层抛光液·参数吉致电子，OXIDE SLURRY 可定制·速率高·效果好·专利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA
产品名称：氧化层抛光液/Oxide氧化物CMP研磨液/Oxide slurry
氧化层抛光液作用: 吉致电子OX氧化层抛光液适用于4-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。客户在使用过程中通过优化稀释比例，均能达到最佳抛光效果。
纳米级SiO2磨料，粒径均一稳定，去除速率稳定，金属离子含量低，通过CMP工艺可有效去除表面氧化层，达到理想平坦度。
吉致电子Oxide Slurry与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点。
吉致电子slurryJZ-B3580A与竞品D3xxx数据对比：
JZ-B3580A基础参数与D3xxx 相近,平均 粒径低于D3xxx,总金属离子含量与D3xxx 相近。
JZ-B3580A表面粗度与D3xxx 在同一水平。
吉致电子氧化层抛光液JZ-B3580&JZ-B3580A：
JZ4500对OX抛光速率更快;
JZ4000对Si的选择比更高,RRox:RRsi=1:0.99,接近1:1
吉致电子氧化层抛光液/OxideSlurry抛光液储存方法：
通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射及冻结，零度以下因产生不可再分散结块而失效。
吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。
本土化生产的优势使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。
吉致电子CMP抛光耗材适用范围
吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺和先进的生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！
吉致电子研发团队--15年经验CMP抛光液配方工程师，为您攻克抛光难题！
无锡吉致电子科技有限公司
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