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吉致电子抛光材料 源头厂家
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半导体硅片抛光液 Si Wafer Slurry
吉致电子·硅片抛光液·半导体晶圆cmp抛光液·Si Slurry
产品名称:硅片抛光液/硅晶圆抛光研磨/半导体晶圆研磨抛光
产品特点:用于8-12”Wafer大硅片及再生晶圆的CMP粗抛、中抛、精抛,减少晶圆表面的不平整。达到半导体高质量晶片的组装工艺要求。[查看]
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金属钼抛光液 钼片CMP抛光
吉致电子·钼片抛光液·金属钼cmp抛光液
产品名称:钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液
产品特点:吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片CMP加工,达到优良的表面平坦度,抛光速率快、良率高、表面均一无缺陷。[查看]
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氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液
产品名称:氧化层抛光液/Oxide slurry/Oxide氧化物CMP研磨液
磨料类型:半导体cmp抛光液slurry
磨料粒径:纳米级SiO2[查看]
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3D先进封装TSV CMP CU Slurry 铜化学机械抛光液
产品名称:3D先进封装TSV CMP CU Slurry 铜化学机械抛光液
磨料类型:半导体cmp抛光液slurry
磨料粒径:专利化学配方/可定制[查看]
http://www.jzdz-wx.com/Products/3dxjfztsvc.html3星
晶圆抛光液--磷化铟Inp Slurry CMP抛光液
产品名称:磷化铟晶圆抛光液/InP抛光浆料/磷化铟slurry
磨料类型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒径:专利化学配方/可定制[查看]
http://www.jzdz-wx.com/Products/jypgylhyin.html3星
射频滤波器抛光液 半导体抛光液 CMP抛光液
产品名称:射频滤波器抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液
磨料类型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒径:10-150nm/全粒径可定制[查看]
http://www.jzdz-wx.com/Products/splbqpgybd.html3星
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