-
吉致电子·硅片抛光液·半导体晶圆cmp抛光液·Si Slurry
产品名称:硅片抛光液/硅晶圆抛光研磨/半导体晶圆研磨抛光
产品特点:用于8-12”Wafer大硅片及再生晶圆的CMP粗抛、中抛、精抛,减少晶圆表面的不平整。达到半导体高质量晶片的组装工艺要求。[查看] - http://www.jzdz-wx.com/Products/bdtgppgysi.html
-
吉致电子·钼片抛光液·金属钼cmp抛光液
产品名称:钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液
产品特点:吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片CMP加工,达到优良的表面平坦度,抛光速率快、良率高、表面均一无缺陷。[查看] - http://www.jzdz-wx.com/Products/jsmpgympcm.html
-
产品名称:氧化层抛光液/Oxide slurry/Oxide氧化物CMP研磨液
磨料类型:半导体cmp抛光液slurry
磨料粒径:纳米级SiO2[查看] - http://www.jzdz-wx.com/Products/yhcpgyoxid.html
-
产品名称:3D先进封装TSV CMP CU Slurry 铜化学机械抛光液
磨料类型:半导体cmp抛光液slurry
磨料粒径:专利化学配方/可定制[查看] - http://www.jzdz-wx.com/Products/3dxjfztsvc.html
-
产品名称:磷化铟晶圆抛光液/InP抛光浆料/磷化铟slurry
磨料类型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒径:专利化学配方/可定制[查看] - http://www.jzdz-wx.com/Products/jypgylhyin.html
-
产品名称:射频滤波器抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液
磨料类型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒径:10-150nm/全粒径可定制[查看] - http://www.jzdz-wx.com/Products/splbqpgybd.html
相关搜索
- 无相关搜索
记录总数:6 | 页数:11
吉致热门资讯
- 南京某手机外壳加工厂
- 上海某精磨玻璃抛光公司
- 广东硅晶片抛光厂
- 吉致应用案例:蓝宝石
- 吉致应用案例:陶瓷
- 吉致应用案例:钨钢
- 吉致资讯第56期:高性价比Leme蓝牙耳机
- 吉致资讯第64期:画家的福音“APPLE PENCIL”
- CMP抛光液的应用领域有哪些?
- 吉致资讯第118期:抛光垫性能对抛光液的影响
- 吉致资讯第119期 蓝宝石化学机械抛光液作用研究
- 吉致资讯第120期 诺基亚10 MAX长这样,这设计有点复古
- 吉致咨询第121期 海绵砂纸在模型打磨的应用
- 吉致咨询第122期 抛光液作用和浓度对工件的影响
- 吉致资讯第123期 如何正确选择合适的抛光液
- 吉致资讯第124期 陶瓷镜面抛光工艺
- 吉致资讯第125期 如何在研磨工艺中减免划痕
- 吉致资讯第126期 NASA正在研究混合动力客机:噪音更低、更省油
- 吉致咨资讯第127期 真人翻译评讯飞晓译翻译机:晚来10年的“翻译神器”
- 吉致资讯第128期 iPhone SE二代存在的意义 小尺寸大屏幕成终目