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吉致电子抛光材料 源头厂家
25年 专注CMP抛光材料研发与生产

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半导体硅片抛光液 Si Wafer Slurry
吉致电子·硅片抛光液·半导体晶圆cmp抛光液·Si Slurry
产品名称:硅片抛光液/硅晶圆抛光研磨/半导体晶圆研磨抛光
产品特点:用于8-12”Wafer大硅片及再生晶圆的CMP粗抛、中抛、精抛,减少晶圆表面的不平整。达到半导体高质量晶片的组装工艺要求。[查看]
http://www.jzdz-wx.com/Products/bdtgppgysi.html3星
金属钼抛光液 钼片CMP抛光
吉致电子·钼片抛光液·金属钼cmp抛光液
产品名称:钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液
产品特点:吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片CMP加工,达到优良的表面平坦度,抛光速率快、良率高、表面均一无缺陷。[查看]
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铜/合金铜表面抛光液 金属CMP抛光研磨液
吉致电子·合金铜抛光液·金属抛光液
产品名称:铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液
产品特点:适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光,CMP抛光工序可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。[查看]
http://www.jzdz-wx.com/Products/thjtbmpgyj.html3星
精密陶瓷抛光液 CMP纳米级抛光液
吉致电子·精密陶瓷件抛光液·半导体抛光液
产品名称:氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液
产品特点:适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光[查看]
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SiC碳化硅衬底研磨抛光产品
吉致电子·碳化硅研磨抛光·半导体晶圆抛光
产品名称:碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅SIC研磨垫/Sic精抛垫
产品特点:Politex抛光垫FUJIBO抛光垫国产替代[查看]
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阻尼布抛光垫/碳化硅精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代
吉致电子抛光垫
产品名称:碳化硅精抛垫/阻尼布抛光垫/绒面抛光垫
产品厚度:0.6mm-3mm(可定制)
产品直径:φ300-φ1300mm(可定制)
产品特点:Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代[查看]
http://www.jzdz-wx.com/Products/znbpgdthgj.html3星
碳化硅抛光垫/复合无纺布垫Suba800国产替代
吉致电子抛光垫
产品名称:碳化硅抛光垫/复合无纺布抛光垫
产品厚度:1.2mm-3mm(可定制)
开槽规格:10×10--20×20(可定制)
产品直径:φ300-φ1300mm(可定制)
产品特点:高平坦性、低缺陷性和高性价比[查看]
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手机Logo抛光液 金属抛光液 镜面CMP Slurry
产品名称:手机Logo抛光液 金属抛光液 镜面CMP Slurry
磨料类型:专利化学配方/可定制
磨料粒径:专利化学配方/可定制[查看]
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硬质合金抛光液 金属抛光液 CMP镜面抛光液
产品名称:硬质合金抛光液/金属抛光液/CMP镜面抛光
磨料类型:专利化学配方/可定制
磨料粒径:专利化学配方/可定制[查看]
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钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液
产品名称:氧化层抛光液/Oxide氧化物CMP研磨液/Oxide slurry
磨料类型:纳米SiO2
磨料粒径:纳米SiO2[查看]
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碳酸钙抛光液 DNA基因芯片抛光液
产品名称:碳酸CMP研磨液/DNA芯片slurry/水凝胶抛光液
磨料类型:碳酸钙抛光液slurry
磨料粒径:碳酸钙微粉[查看]
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氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液
产品名称:氧化层抛光液/Oxide slurry/Oxide氧化物CMP研磨液
磨料类型:半导体cmp抛光液slurry
磨料粒径:纳米级SiO2[查看]
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3D先进封装TSV CMP CU Slurry 铜化学机械抛光液
产品名称:3D先进封装TSV CMP CU Slurry 铜化学机械抛光液
磨料类型:半导体cmp抛光液slurry
磨料粒径:专利化学配方/可定制[查看]
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晶圆抛光液--磷化铟Inp Slurry CMP抛光液
产品名称:磷化铟晶圆抛光液/InP抛光浆料/磷化铟slurry
磨料类型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒径:专利化学配方/可定制[查看]
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半导体抛光液 铌酸锂LiNbO3晶圆抛光液
产品名称:铌酸锂晶体抛光液/铌酸锂抛光浆料/LN抛光液
磨料类型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒径:专利化学配方/可定制[查看]
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半导体抛光液 蓝宝石抛光液/研磨液
产品名称:蓝宝石抛光液/蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液
磨料类型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒径:专利化学配方/可定制[查看]
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陶瓷覆铜板CMP研磨液/DPC抛光液/DBC研磨液
产品名称:陶瓷覆铜板研磨液/DPC抛光液/DBC研磨液/CMP化学机械抛光液
磨料类型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒径:专利化学配方/可定制[查看]
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金属抛光液-手机抛光液-3C抛光液-镜面抛光液
产品名称:手机抛光液 金属抛光液 镜面抛光液 logo抛光液
磨料类型:专利化学配方/可定制
磨料粒径:专利化学配方/可定制[查看]
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不锈钢抛光液 金属抛光液 镜面抛光液
产品名称:不锈钢抛光液 金属抛光液 镜面抛光液
磨料类型:专利化学配方/可定制
磨料粒径:专利化学配方/可定制[查看]
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碳化硅晶圆抛光液 硅衬底抛光液  slurry抛光液
产品名称:碳化硅晶圆抛光液 硅衬底抛光液 slurry抛光液
磨料类型:专利化学配方/可定制
磨料粒径:专利化学配方/可定制[查看]
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