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[常见问题]半导体抛光中铜抛光液和钨抛光液的区别[ 2023-08-18 16:58 ]

常用的半导体抛光液，按抛光对象的不同分W钨抛光液、CU铜抛光液、氧化层抛光液、STI抛光液等。其中铜抛光液slurry主要应用于 130nm 及以下技术节点逻辑芯片的制造工艺，而钨抛光液W slurry则大量应用于存储芯片制造工艺，在逻辑芯片中用量较少。铜抛光液，主要由腐蚀剂、成膜剂和纳米磨料组成。腐蚀剂用来腐蚀溶解铜表面，成膜剂用于形成铜表面的钝化膜，钝化膜的形成可以保护腐蚀剂的进一步腐蚀，并可有效地降低金属表面硬度。除此之外，CMP抛光液中经常添加一些化学试剂以调节PH值，为抛光过程

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[行业资讯]什么是OX研磨液?吉致电子氧化层抛光液性能有哪些？[ 2023-04-19 10:08 ]

Oxide slurry 简称OX氧化物研磨液广泛用于氧化层材料的CMP抛光，抛光研磨后达到精准的表面平整度和厚度控制，如Si Wafer晶圆表面的氧化硅层或者上层金属与氧化硅之间的氧化硅层等。吉致电子OX氧化层抛光液适用于4-12英寸氧化硅镀膜片的氧化层抛光液。JEEZ半导体抛光液性能优点：①使用纯度高的纳米抛光磨料，拥有高速率加工能力;②slurry粒径大小均匀因此能获得无缺陷的表面；③ 吉致Oxide slurry 易清洗无残留，对后续工艺影响小。

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[行业资讯]半导体抛光液--球型二氧化硅抛光液的用途[ 2022-11-23 15:21 ]

球形硅微粉作为抛光液磨料，可大大提高产品的刚性、耐磨性、耐候性、抗冲击性、耐压性、抗拉性、阻燃性、良好的耐电弧绝缘性和耐紫外线辐射性。让我们来看看球型二氧化硅抛光液在电子芯片中的一些应用。精密研磨粉高纯球形硅粉用于光学器件和光电行业的精密研磨，特别适用于半导体单晶多晶硅片、显像管玻壳玻屏、光学玻璃、液晶显示器(LCD、LED)玻璃基板、压电晶体、化合物半导体材料(砷化镓、磷化铟)、磁性材料等半导体行业的研磨抛光。吉致电子用高纯球形硅粉制备成的超高纯硅溶胶抛光液slurry,

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[应用案例]半导体抛光液---陶瓷覆铜板DPC抛光液/DBC研磨液[ 2022-11-18 14:46 ]

吉致电子陶瓷覆铜板研磨液/DPC抛光液/DBC研磨液通常有粗抛和精抛两道工艺，根据客户对工件抛磨要求和表面粗糙度不同，选择不同的DPC研磨液或精抛液。陶瓷覆铜板DPC/DBC的粗抛工艺，主要是快速减薄尺寸，提高抛磨效率。对于质量度要求更高的DPC基板，需要进行二次精抛，达到去除表面缺陷和不良效果的目的，使用吉致电子陶瓷覆铜板研磨液/精抛液后，DPC/DBC基板的表面粗糙度RA值可达0.003μm以下。选择吉致陶瓷覆铜板研磨液/DPC抛光液/DBC研磨液可实现陶瓷基板粗抛、精抛不同阶段效果。经过吉致CMP抛光后，工

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[行业资讯]半导体抛光液---半导体材料有哪些？[ 2022-11-17 15:37 ]

半导体业内从材料端分为：第一代元素半导体材料，如硅（Si）和锗(Ge)；第二代化合物半导体材料：如砷化镓（GaAs）、磷化铟（InP）等；第三代宽禁带材料：如碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）、氮化铝（ALN）、氧化镓（Ga2O3）等。碳化硅（SiC）和氮化镓（GaN）、氮化铝（ALN）、氧化镓（Ga2O3）等，因为禁带宽度大于2.2eV统称为宽禁带半导体材料，在国内也称为第三代半导体材料。其中碳化硅和氮化镓是目前商业前景最明朗的半导体材料，堪称半导体产业内新一代“黄金赛道&

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[客户感言]半导体抛光液国产平替----射频滤波器抛光液[ 2022-09-19 16:00 ]

我们是广东一家半导体厂商，主要是做射频滤波器件的，制程其中有一道CMP工艺要用到抛光液等耗材。近几年随着国家半导体事业的发展，很多物料遭受国外卡脖子限制，就算能买回来不仅价格高，交期也要很久。海外采购过程费时费力费钱，导致我们一直以来都是看国外厂商的脸色，最近也是痛下决心要国产化替代。期间测试了很久，也试了很多家厂商，测试的结果总是不理想，最主要的是在台阶选择比上的体现。一筹莫展之际，找到了吉致电子科技有限公司！贵司的服务和产品效果也是让我大吃一惊，期间送样测试也是免费的，

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[常见问题]半导体抛光液是什么？[ 2022-09-15 15:51 ]

半导体抛光液是什么？简单来说抛光液是通过化学机械反应，去除半导体工件表面的氧化层，达到光洁度和高平坦要求的化学液体。半导体CMP抛光液是超细固体研磨材料和化学添加剂的混合物，制备成均匀分散的悬浮液，起到研磨、润滑和腐蚀溶解等作用，主要原料包括研磨颗粒、PH调节剂、氧化剂和分散剂等。抛光液的分类：根据酸碱性可以分为：酸性抛光液和碱性抛光液、中性抛光液。根据抛磨材质可以分为：金属抛光液和非金属抛光液。根据抛光对象不同，抛光液可分为铜抛光液、钨抛光液、硅抛光液和钴抛光液等。其中，铜抛光液和钨抛

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