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[应用案例]Sic Slurry 吉致电子碳化硅晶圆抛光液[ 2023-04-11 11:07 ]
  吉致电子碳化硅精抛液,适用于Sic碳化硅晶圆衬底精密加工表面平坦化。wafer使用的Slurry具有高度抛光、低粗糙度的特点,SiC碳化硅衬底抛光液抛光后的晶圆表面无划伤、雾等缺陷,碳化硅晶片平坦度高。吉致电子研发的碳化硅抛光液稀释比高、抛光后表面易清洗,被广泛应用于半导体集成电路衬底的制造中。  吉致电子SiC Slurry wafer抛光液具有很好的流动性和分散性,不易结晶、易清洗、抛光效率高等优点,可以满足碳化硅晶片的精抛加工要求,也可根据客户工艺调整做定制化硅晶圆(si wafer)
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[行业资讯]吉致电子--抛光液的主要成分和功能有哪些?[ 2022-07-22 16:52 ]
  抛光液的主要成分可分为以下几类:氧化铝抛光液、氧化铈抛光液、金刚石研磨液(聚晶钻石抛光液、单晶金刚石抛光液、纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液、碳化硅抛光液。  硅溶胶抛光液(氧化硅抛光液)是以高纯硅粉为原料,通过特殊工艺(如水解法)生产的高纯度低金属离子型抛光产品。广泛应用于多种纳米级材料的高平坦化抛光,如硅晶片、锗晶片、砷化镓、磷化铟等化合物半导体材料、精密光学器件、蓝宝石衬底、蓝宝石窗口等。  金刚石抛光液以金刚石微粉为主要成分,高分散配方,硬度高韧性好,有良好的高切削率,不易
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