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[常见问题]打磨碳化硅需要哪种抛光垫？[ 2023-08-17 16:41 ]: 打磨碳化硅需要哪种抛光垫？打磨碳化硅衬底分研磨和抛光4道工序：粗磨、精磨、粗抛、精抛。抛光垫的选择根据CMP工艺制程的不同搭配不同的研磨垫：粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫吉致电子CMP抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。结合硬质和软质研磨抛光垫的优点，可兼顾工件的平坦度与均匀度碳化硅研磨选择吉致无纺布复合抛光垫，提供更快磨合的全局平坦性，提升碳化硅晶圆制程的稳定性与尺寸精密度。压纹和开槽工艺，让PAD可保持抛光; http://www.jzdz-wx.com/Article/dmthgxynzp_1.html

[应用案例]吉致电子金属抛光液---Apple Logo镜面抛光液[ 2022-11-11 17:21 ]: Apple Logo非常有质感，其闪闪发光的镜面效果展现出苹果品牌的魅力与审美。一个完美苹果LOGO的诞生需要经过化学机械抛光工艺的抛磨，CMP工艺抛出的光洁度更高，效率更稳定，保证良品率的同时也为品牌塑造更好的形象。Apple Logo采用的是6063铝合金材质/不锈钢材质，进行CNC切割成LOGO形状，然后通过平面抛光机进行抛光，采用复合型粗抛垫和CMP抛光液进行粗抛平整化，最后通过采用阻尼布精抛垫加精抛液抛磨，达到完美的镜面效果。吉致电子为苹果LOGO定制的金属抛光液，工艺为粗磨，中磨，精抛。抛光速率快，光洁; http://www.jzdz-wx.com/Article/jzdzjspgya_1.html

[吉致动态]镜面抛光液---氧化硅抛光液在抛光中的作用[ 2022-08-12 14:17 ]: 镜面抛光液的主要材料是纳米二氧化硅磨料，制备成的液体浆料也称为硅溶胶抛光液。二氧化硅抛光液主要适用于抛光蓝宝石衬底、硅片、半导体、精密电子工件、晶体等产品。二氧化硅抛光浆料主要利用硅胶离子的高速抛光来达到表面处理的效果。二氧化硅是用纳米技术制成的。根据工件抛磨要求，可制备出不同切削力的产品达到镜面抛光。粒度控制可以有效减少电子工件上的污垢，使用纳米级硅胶颗粒加工工件，不会损伤工件，同时还能达到理想效果氧化硅抛光液需要配合精抛垫使用，精抛垫的主要成分是聚氨酯，聚氨酯的众多孔隙可以将抛光液均匀地粘在其表面，与工件一起研; http://www.jzdz-wx.com/Article/jmpgyyhgpg_1.html

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