- [吉致动态]蓝宝石研磨液在CMP衬底工件的应用[
2024-02-23 14:34
]
-
蓝宝石研磨液(又称为蓝宝石抛光液)是用于在蓝宝石衬底的减薄和研磨抛光。 蓝宝石研磨液由金刚石微粉、复合分散剂和分散介质组成。蓝宝石研磨液利用聚晶金刚石的特性，在研磨抛光过程中保持高切削效率的同时不易对工件表面产生划伤。金刚石研磨液可以应用在蓝宝石衬底的研磨和减薄、光学晶体、硬质玻璃、超硬陶瓷和合金、磁头、硬盘、芯片等领域的研磨和抛光。 吉致电子蓝宝石研磨液在蓝宝石衬底方面的应用:1.外延片生产前衬底的双面研磨:用于蓝宝石研磨一道或多道工序，根据最终蓝宝石衬底研磨要求用6um、3
-
http://www.jzdz-wx.com/Article/lbsymyzcmp_1.html
- [行业资讯]蓝宝石窗口平面加工--蓝宝石研磨液[
2023-05-09 17:07
]
-
蓝宝石平面视窗、精密质量蓝宝石视窗、高精度质量蓝宝石视窗是为各种光学、机械和电子应用提供了强度、耐磨性、化学惰性适用于光学和激光应用，这些蓝宝石窗口设计用于关键的光学和激光应用。蓝宝石窗口的制程中关键步骤需要用到CMP研磨抛光工艺，蓝宝石研磨液适合用于大批量蓝宝石窗口的生产应用。 蓝宝石抛光液以高纯度氧化硅原料制备而成，具有悬浮性好，不易结晶，易清洗等特点。用于蓝宝石工件的镜面研磨，研磨后的工件表面粗糙度低，无划伤，表面质量度高。吉致电子生产研发的蓝宝石窗口CMP抛光研磨液，性能稳
-
http://www.jzdz-wx.com/Article/lbsckpmjgl_1.html
- [常见问题]蓝宝石晶圆怎么研磨--sapphire wafer抛光液实现高平坦度表面[
2023-04-26 11:10
]
-
吉致电子蓝宝石研磨液sapphire slurry又称为蓝宝石抛光液。专业用于蓝宝石衬底、外延片、窗口、蓝宝石wafer的减薄和抛光。蓝宝石抛光液由纯度高的磨粒、复合分散剂和分散介质组成，具有稳定性高、不沉降不易结晶、抛光速度快的优点。 通过CMP工艺搭配蓝宝石专用slurry可实现蓝宝石晶圆的高平坦度加工,吉致电子抛光液利用纳米SiO2粒子研磨表面,不会对加工件造成物理损伤,达到精密加工。蓝宝石CMP抛光液的低金属的成分，可以有效防止产品受到污染。 &n
-
http://www.jzdz-wx.com/Article/lbsjyzmyms_1.html
- [常见问题]蓝宝石抛光液是不是二氧化硅抛光液[
2023-02-06 16:10
]
-
蓝宝石抛光液是不是二氧化硅抛光液？蓝宝石抛光液是以高纯度硅粉为原料，经特殊工艺制备成的一种低金属离子CMP抛光液，是一种高纯度的氧化硅抛光液，广泛应用于多种材料的纳米级高平坦化抛光。吉致电子生产的蓝宝石抛光液主要用于蓝宝石衬底研磨减薄，蓝宝石A向抛光液，蓝宝石C向抛光液等。抛光范围如：硅片、锗片、化合物晶体磷化铟、砷化镓、精密光学器件、宝石饰品、金属镜面等研磨抛光加工。蓝宝石抛光液Sapphire Slurry的特点：1.高纯度（Cu含量小于50 ppb），有效减小对电子类产品的污染。2.高抛光速率，利用大粒径的胶
-
http://www.jzdz-wx.com/Article/lbspgysbse_1.html
- [应用案例]蓝宝石晶圆研磨抛光[
2022-12-28 13:57
]
-
蓝宝石晶片抛光的目的是将衬底的最终厚度减小到所需的目标值，具有优于+/- 2μm的TTV和小于2nm的表面粗糙度。这些操作要求需要具有高精度，高效率和高稳定性的机器和工艺，使用吉致电子蓝宝石抛光液和抛光垫进行CMP研磨抛光即可实现这一过程。 通过使用CMP抛光工艺，可以达到理想的表面粗糙度。每个抛光的蓝宝石晶片在加工过程中都会有均匀一致的材料去除，并且表面光洁度始终如一。通过改变压力负载，可以实现每小时1-2μm的材料去除率（MRR）。 蓝宝石晶片抛光分为A向抛光和C向抛光。从
-
http://www.jzdz-wx.com/Article/lbsjyympg_1.html
- [常见问题]吉致电子抛光液---温度对蓝宝石衬底CMP工艺的影响[
2022-12-08 15:40
]
-
温度在蓝宝石衬底抛光中起着非常重要的作用, 它对CMP工艺的影响体现在抛光的各个环节。 在CMP工艺的化学反应过程和机械去除过程这两个环节中, 受温度影响十分强烈。一般来说, 抛光液温度越高, 抛光速率越高, 表面平坦度也越好, 但化学腐蚀严重, 表面完美性差。所以, 蓝宝石抛光液/研磨液温度必须控制在合适的范围内, 这样才能满足圆晶片的平坦化要求。实验表明, 抛光液在40℃左右的时候, 抛光速率达到了最大值, 随着温度继续升高, 抛光速率的上升趋于平缓, 并且产生抛光液蒸腾现象。&nbs
-
http://www.jzdz-wx.com/Article/jzdzpgywdd_1.html
- [常见问题]蓝宝石抛光液--抛光磨料粒径、浓度及流速的影响[
2022-12-08 11:33
]
-
蓝宝石抛光液磨料粒径、浓度及流速的影响研究表明，在其它条件相同情况下, 随着蓝宝石抛光浆料浓度的增大, 抛光速率增大。对于粒径为80nm的研磨料: 蓝宝石抛光液的质量分数为10% 时, CMP去除速率为572.2nm /m in; 而随着质量分数增大至15%时,CMP去除速率增大至598.8nm/min; 质量分数继续增大至20% 时, CMP去除速率则增大至643.3nm/min。这主要是因为蓝宝石抛光液浓度的增大, 使得抛光过程中参与机械磨削的粒子数增多, 相应的有效粒子数也增多, 粒径一定的情况下,
-
http://www.jzdz-wx.com/Article/lbspgypgml_1.html
- [行业资讯]蓝宝石抛光液的成分[
2022-09-21 15:41
]
-
蓝宝石抛光液中的主要成分有磨料、表面活性剂、螯合剂、PH调节剂等，抛光液是影响CMP（化学机械抛光）效果最重要的因素之一。评价抛光液性能好坏的指标是流动性好，分散均匀，在规定时间内不能产生团聚、沉淀、分层等问题，磨料悬浮性能好，抛光速率快，易清洗且绿色环保等。 其中，磨料主要影响化学机械抛光中的机械作用。磨料的选用主要从磨料的种类、浓度以及粒径三个方面来考虑。目前CMP抛光液中常用的磨料主要有金刚石、氧化铝、氧化硅等单一磨料，也有氧化硅/氧化铝混合磨料以及核壳型的复合磨料等。行业内主流抛光
-
http://www.jzdz-wx.com/Article/lbspgydcf_1.html
- [行业资讯]蓝宝石抛光液如何选？[
2022-08-17 17:07
]
-
随着科技的发展和迭代，3C科技产品对玻璃面板的要求越来越高，需要硬度更高且不容易划伤的玻璃，因此蓝宝石材质的应用和需求越来越广泛，如手机蓝宝石屏幕、蓝宝石摄像头、蓝宝石手表等。蓝宝石的特点是硬度高，脆性大，所以加工难度也大。 因此，很有必要研究并升级CMP抛光工艺在蓝宝石窗口上的应用。目前国内批量生产蓝宝石衬底的技术还不成熟，切割出来的蓝宝石晶片有很深的加工痕迹，抛光后容易形成麻点或划痕。在蓝宝石衬底的生产中，裂纹和崩边的情况比较高，占总数的5%-8%。抛光过程中影响抛光质量的因素很多，如
-
http://www.jzdz-wx.com/Article/lbspgyrhx_1.html
南京某手机外壳加工厂