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[行业资讯]氧化铝抛光液在蓝宝石窗口中的应用[ 2022-09-23 15:36 ]
  α -氧化铝(Al2O3)是众多氧化铝晶相中的最稳定的晶体相,它由其他晶相的氧化铝在高温下转变而成,是天然氧化物晶体中硬度最高的物质,硬度仅次于金刚石,远远大于二氧化硅溶胶颗粒,它是一种常用的抛光用磨料,被广泛用于许多硬质材料的抛光上。应用于CMP抛光液制备中,常用于在蓝宝石窗口的镜面抛光工艺中。 α -氧化铝(Al2O3)其实与蓝宝石是同一种物质或材料,材料结构中的原子排列模式完全相同,区别在于多晶体与单晶体。因此,从硬度上讲α-氧化铝(Al2O3)纳米粉体与蓝宝石晶体的硬度相当,可以用于
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[行业资讯]蓝宝石抛光液的成分[ 2022-09-21 15:41 ]
  蓝宝石抛光液中的主要成分有磨料、表面活性剂、螯合剂、PH调节剂等,抛光液是影响CMP(化学机械抛光)效果最重要的因素之一。评价抛光液性能好坏的指标是流动性好,分散均匀,在规定时间内不能产生团聚、沉淀、分层等问题,磨料悬浮性能好,抛光速率快,易清洗且绿色环保等。  其中,磨料主要影响化学机械抛光中的机械作用。磨料的选用主要从磨料的种类、浓度以及粒径三个方面来考虑。目前CMP抛光液中常用的磨料主要有金刚石、氧化铝、氧化硅等单一磨料,也有氧化硅/氧化铝混合磨料以及核壳型的复合磨料等。行业内主流抛光
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[常见问题]半导体抛光液是什么?[ 2022-09-15 15:51 ]
  半导体抛光液是什么?简单来说抛光液是通过化学机械反应,去除半导体工件表面的氧化层,达到光洁度和高平坦要求的化学液体。  半导体CMP抛光液是超细固体研磨材料和化学添加剂的混合物,制备成均匀分散的悬浮液,起到研磨、润滑和腐蚀溶解等作用,主要原料包括研磨颗粒、PH调节剂、氧化剂和分散剂等。抛光液的分类:根据酸碱性可以分为:酸性抛光液和碱性抛光液、中性抛光液。根据抛磨材质可以分为:金属抛光液和非金属抛光液。根据抛光对象不同,抛光液可分为铜抛光液、钨抛光液、硅抛光液和钴抛光液等。其中,铜抛光液和钨抛
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[行业资讯]CMP抛光液---复合磨料抛光液[ 2022-09-15 13:53 ]
  复合磨料抛光液  CMP抛光液产品除了混合磨料外,也有利用各种新兴材料制备复合磨料,常用的方法有纳米粒子包覆和掺杂等。如通过结构修饰改善纳米粒子的分散性、复合其他类型材料提升在酸、碱性抛光液中的综合性能等。  复合磨料抛光液相比混合磨料和单一磨料,在材料去除率及表面粗糙度方面均有明显的优势,能实现纳米级或亚纳米级超低损伤的表面形貌。但复合磨料的制备工艺相对比较复杂,目前仅处于实验室探索阶段,距离复合磨料在大规模生产上的应用还有较远的距离。  吉致电子科技25年抛光液生产厂
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[常见问题]什么是单一磨料的CMP抛光液?[ 2022-08-31 16:11 ]
单一磨料抛光液化学机械CMP抛光液在研究初期大多是使用单一磨料,如氧化铝抛光液(Al2O3)、二氧化硅抛光液(SiO2)、二氧化铈抛光液(CeO2)、氧化锆抛光液(ZrO2)和金刚石抛光液等。其中研究应用最多的是Al2O3、SiO2和CeO2磨料抛光液。氧化铝抛光液--Al2O3的硬度高,多用于蓝宝石、碳化硅、光学玻璃、晶体和合金材料的抛光,但含Al2O3的抛光液会出现选择性低、分散稳定性不好、易团聚的问题,容易在抛光表面造成划伤,一般需要配合各种添加剂使用才能获得良好的抛光表面。氧化硅抛光液--SiO2具有良好的
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[常见问题]CMP抛光液中磨料对抛光效果的影响[ 2022-08-30 15:49 ]
磨料对抛光效果的影响在CMP抛光过程中磨料的作用是借助机械力,通过化学反应去除工件或晶圆表面形成的钝化膜,从而达到表面平坦化的目的。CMP抛光液常用的磨料有硅溶胶SiO2、氧化铝Al2O3、氧化铈CeO2、金刚石等。磨料的种类磨料的种类和材质决定了抛光液中微粒的硬度和粒径,从而影响拋光效果。抛光铝合金工件实验中相对于氧化铝抛光液Al2O3磨料,氧化硅抛光液SiO2磨料能获得较好的表面平整度、更少的表面划痕和更小的尺寸。原因是硅溶胶抛光液SiO2磨粒尺寸较小,拋光时磨料嵌入晶圆表面的深度较小。 此外,通过优
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[常见问题]磨料在CMP抛光液中的作用[ 2022-08-26 14:45 ]
  抛光磨料是CMP抛光液中的主要成分,在抛光过程中通过微切削、微擦划、滚压等方式作用于工件表面,达到机械去除材料的作用。  抛光液根据磨料成分一般分为单一磨料抛光液,混合磨料抛光液,复合磨料抛光液  磨料在CMP抛光过程中起到的作用为:(1)机械作用的实施者,起机械磨削作用;(2)传输物料的功能,不仅将新鲜浆料传输至抛光垫与被抛材料之间,还将反应物带离材料表面,使得材料新生表面露出,进一步反应去除。所以选择抛光液时记得考虑分散性好,流动性好,硬度适中,易于清洗的抛光液产品,有相关问题
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[吉致动态]吉致电子CMP抛光液适用设备有哪些?[ 2022-08-23 16:48 ]
  吉致电子研发的抛光液产品广泛应用于金属、光电、集成电路半导体、陶瓷、硬盘、面板显示器等材质表面的深度处理。吉致电子CMP抛光耗材产品可广泛应用于各种CMP领域,包括Lapping机台、五轴机台、单面抛光机、双面抛光机等其他研磨抛光机台设备。  抛光液升级配方可用于半导体行业硅片硅衬底减薄、碳化硅衬底抛光、蓝宝石衬底抛光。针对性更强的抛光液产品如阻挡层化学机械抛光液,钨化学机械抛光液以及介质层化学机械抛光液、浅槽隔离化学机械抛光液、用于3D封装TSV化学机械抛光液可详细咨询。抛光液的特点是不伤
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[常见问题]吉致电子硅溶胶抛光液的适用范围[ 2022-08-19 15:44 ]
硅溶胶抛光液又称氧化硅抛光液,通过离子交换法和水解法制备不同粒径的稳定硅溶胶,经过钝化添加化学助剂和特殊工艺配制成的二氧化硅抛光浆料,广泛应用于集成电路半导体、特殊材料、金属工件、脆硬镜面的抛光。吉致电子25年CMP抛光液生产厂家,可根据客户不同工艺要求定制调整抛光浆料。氧化硅抛光液主要适用范围:1.可用于玻璃陶瓷的表面抛光。2.用于硅片和IC加工的粗抛和精抛,适用于大规模集成电路多层膜的平坦化。3.用于半导体元件的加工,如晶圆后道CMP清洗、光导摄像管、多晶化模块、平板显示器、微电机系统等。4.广泛应用于CMP化
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[常见问题]吉致电子--抛光液可以自己调配吗?[ 2022-07-20 16:52 ]
 解答一下最近很多客户会问到的问题:抛光液可以自己调配吗? 答案是:不可以  很多客户对CMP抛光液的误解是抛光粉加上液体就能得到抛光液成品了,这是个误区哦。虽然客户收到的抛光液是瓶装或桶装的液体形态,但是这是经过科学配比和特殊工艺制备而成的。不同材质工件抛磨会用到不同的微粉磨料组合,配液也分水基和油基2种。抛光剂在配液的过程中要用到特定设备进行操作,如温度测量仪,PH检测仪,天秤称这些都是基本的生产设备,还要经过高速搅拌,均质等。  很多非正规渠道生产商用到手工方法进行配液
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[行业资讯]CMP抛光液的抛光磨料有哪些?[ 2022-07-19 16:00 ]
CMP抛光液的抛光磨料有哪些?抛光液中常用的抛光磨料种类可分为天然磨料和人造磨料。1.天然磨料:自然界中所有可用于研磨或磨削的材料统称为天然磨料。常用的天然磨料如下:金刚石、天然刚玉、石榴石和石英。2.人造磨料:人造磨料分为刚玉系列、碳化物系列、硬质系列。刚玉系人造磨料:包括棕刚玉、白刚玉、锆刚玉、微晶刚玉、单晶刚玉、铬刚玉、镨钕刚玉、黑刚玉和矾土烧结刚玉。碳化硅系人造磨料:碳化硅、铈碳化硅、碳化硼、碳硅硼。硬质人造磨料系列:金刚石(人造钻石)和立方氮化硼。随着科学技术的发展,人造磨料品种已达几十种,天然磨料由于自
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[行业资讯]CMP抛光液的流速快慢会有什么影响?[ 2022-07-06 16:43 ]
  CMP抛光液的流速快慢会有什么影响?今天,吉致电子小编就给大家解释一下抛光液流动性的影响。  现代芯片制造领域有两种相互矛盾的趋势:待加工的工件尺寸越来越大,但要求的加工精度却越来越高。比如下一代集成电路中的晶圆直径要大于300mm,但表面粗糙度和波纹度要小于几埃,下一代磁盘的划痕深度和粗糙度要≤1nm和≤0.1nm,因此有必要对材料进行分子去除。  抛光液中所含的化学物质与晶片表面或亚表面相互作用,形成软化层或弱结合,或在晶片表面产生钝化反应,使材料被平滑均匀地去除,
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[行业资讯]CMP抛光技术在半导体和蓝宝石工件中的应用[ 2022-07-05 15:08 ]
蓝宝石衬底抛光用什么工艺可以实现?LED芯片又是怎么实现表面抛光平整的?吉致电子抛光液小编带您了解!目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石,在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度高,普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后,表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用"软磨硬"的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展,聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。CMP技术还广泛的应用于集成电路(IC)和大规模
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[行业资讯]CMP抛光液在航天材料中的运用[ 2022-06-07 10:28 ]
北京时间2022年6月5日10时44分,搭载神舟十四号载人飞船的长征二号F遥十四运载火箭在酒泉卫星发射中心点火发射,577秒后与火箭分离成功,神舟十四号进入预定轨道,发射取的圆满成功。这是中国航天事业的又一伟大征程,看了全程直播的吉致电子科技小编感到热血沸腾,让我们致敬中国航天人,致敬中国航天事业。中国航天事业的蓬勃发展,离不开科技的进步和材料的迭代更新。在航天材料的运用上,高性能的叶片材料,高效能的陶瓷制件,高精密的仪器零件和航天金属材料都要耐得住高温低温的考验。制备这些高科技航天材料,抛光磨削的步骤与抛光液有着
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[吉致动态]喜迎“六一”欢度“端午”----吉致电子员工团建活动[ 2022-06-02 15:37 ]
      春光无限好,正是活动时!6月即将迎来“端午佳节”,吉致电子科技有限公司为了让大家在繁忙的工作中放松心情、愉悦身心,特别组织了一场办公室团建活动,让大家释放工作压力,再燃工作斗志,提高团队凝聚力和战斗力。      活动日恰逢“六一”儿童节,过期的大儿童们也要来凑热闹!公司贴心地准备了很多精美礼物,策划了非常有趣的团建小游戏:敲冰企鹅,谁是卧底,气球运杯子。  吉致电子的CMP抛光液研发工
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[常见问题]CMP抛光液的应用领域有哪些?[ 2016-07-13 14:07 ]
CMP抛光液主要应用于LED行业和半导体行业。CMP是Chemical Mechanical Planarization的缩写,意思是化学机械平坦化。
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