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半导体硅片抛光液 Si Wafer Slurry
产品名称：硅片抛光液/硅晶圆抛光研磨/半导体晶圆研磨抛光
产品特点：用于8-12”Wafer大硅片及再生晶圆的CMP粗抛、中抛、精抛，减少晶圆表面的不平整。达到半导体高质量晶片的组装工艺要求。
硅片SI抛光液·参数
可定制·速率高·效果好·专利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA
产品名称：硅片抛光液/硅晶圆抛光研磨/半导体晶圆研磨抛光/Si Wafer Slurry
硅片抛光液作用: 用于8-12”Wafer大硅片及再生晶圆的CMP粗抛、中抛、精抛，减少晶圆表面的不平整。达到半导体高质量晶片的组装工艺要求。
8-12”Wafer大硅片及再生晶圆抛光液具有：
1、高去除速率且除速率稳定。
2、循环性好、稀释比高、低表面粗糙度。
3、精抛光液低颗粒残留、低表面粗糙度、低Haze值、低金属离子含量。
*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务
*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务
利用吉致电子CMP抛光设备和研磨液/抛光液对半导体晶圆表面进行研磨抛光加工，使硅片、晶圆等工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平坦表面的。
吉致电子Si Slurry适用于大硅片及再生晶圆的抛磨，可达到优良的表面平坦度，抛光速率快、良率高、表面均一无缺陷。
吉致电子半导体硅片抛光液储存方法：
通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射及冻结，零度以下因产生不可再分散结块而失效。
吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。
本土化生产的优势使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。
吉致电子CMP抛光耗材适用范围
吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺和先进的生产设备，为金属钼、不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！
吉致电子研发团队--15年经验CMP抛光液配方工程师，为您攻克抛光难题！
无锡吉致电子科技有限公司
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