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客户感言

DPC研磨液----陶瓷覆铜板研磨液抛磨效果

DPC研磨液----陶瓷覆铜板研磨液抛磨效果

我司是做陶瓷覆铜板的,做的是DPC工艺。板材对粗糙度和平面度有严格要求,搭配吉致电子生产的研磨垫、研磨液抛光液效果很好,可以达到我司要求,为了回馈贵司免费提供我司抛光液样品,我分享两张对比图如下:本文由无锡吉致电子科技原创,版权归无锡吉致电子科技,未经允许,不得转载,转载需附出处及原文链接。http://www.jzdz-wx.co…

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解决抛光难题-----吉致电子陶瓷基板抛光液

解决抛光难题-----吉致电子陶瓷基板抛光液

  陶瓷基板厂家陈总感言:  ——我们是做氧化铝、氮化铝、氮化硅陶瓷基板的厂家,这些陶瓷板的硬度都是比较高的,我们对板子的RA表面粗糙度有要求,试过好多种抛光工艺,最终选择了CMP双面抛光机。  项目开发期间我们咨询了很多厂家,也试了很多抛光液,总会出现各种问题,比如:粗糙度达不到、移除速率过慢…

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应用案例

智能手表不锈钢后盖抛光

智能手表不锈钢后盖抛光

智能手表后盖不锈钢抛光,需要用到CMP工艺的粗抛和精抛。搭配吉致电子抛光液和抛光垫使用可以获得完美无痕的镜面效果。工件原件为不锈钢材质,抛光前有明显的纹路,原始件抛磨面是带弧度的形态,与常见的平面抛光不同,曲面弧面抛光要设计不同规格沟槽及复合不同缓冲材质的抛光垫,通过不同成分的抛光液对弧面表面进行处理,以去除氧化…

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碳化硅SiC抛光工艺

碳化硅SiC抛光工艺

  根据半导体行业工艺不同,CMP抛光液可分为介质层化学机械抛光液、阻挡层化学机械抛光液、铜化学机械抛光液、硅化学机械抛光液、钨化学机械抛光液、TSV化学机械抛光液、浅槽隔离化学机械抛光液等。  SIC CMP抛光液是半导体晶圆制造过程中所需主要材料之一,在碳化硅材料工件打磨过程中起着关键作用,抛光液的种类、颗粒分散…

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