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吉致电子陶瓷覆铜板研磨液
陶瓷覆铜板 CMP 抛光液的定义，为半导体行业电子封装使用的研磨液及抛光液，适用于陶瓷覆铜板粗抛及精抛。提高陶瓷工件表面去除率和平坦化性能，提供镜面效果，解决电镀铜层厚度及均匀性、表面粗糙度等抛光难题。吉致电子陶瓷覆铜板研磨液具有悬浮性好不易沉淀，颗粒分散均匀不团聚，软硬度适中避免划伤，抛磨过程中提高抛光速度和质量…
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DPC研磨液----陶瓷覆铜板研磨液抛磨效果
我司是做陶瓷覆铜板的，做的是DPC工艺。板材对粗糙度和平面度有严格要求，搭配吉致电子生产的研磨垫、研磨液抛光液效果很好，可以达到我司要求，为了回馈贵司免费提供我司抛光液样品，我分享两张对比图如下：本文由无锡吉致电子科技原创，版权归无锡吉致电子科技，未经允许，不得转载，转载需附出处及原文链接。http://www.jzdz-wx.co…
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吉致电子--CMP不锈钢表面快速抛光
不锈钢获取高质量的镜面的传统工艺主要采用的抛光技术:电解抛光、化学抛光和机械抛光。随着对镜面不锈钢表面质量要求的不断提高，同时为了提高抛光效率，新型不锈钢抛光工艺----CMP化学机械抛光 被广泛应用。吉致电子针对不锈钢表面镜面处理，配制组成的CMP抛光液，通过化学溶液提高不锈钢表面活性，同时进行高速的机械抛光，用来消除…
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氧化铝陶瓷抛光液镜面抛光
氧化铝陶瓷片的表面抛光具有一定难度，原因有两个，一是氧化铝材质硬度较高，难以研磨。其二，氧化铝陶瓷表面吸光性较强，普通抛光难以达到镜面效果。这就使得氧化铝陶瓷抛光的难度无限扩大，针对这些加工难点，吉致电子已经具备成熟的抛光工艺和产品，有完善的氧化铝陶瓷抛光方案。 客户的氧化铝陶瓷片，要求做镜面加工…
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