在半导体制造、精密光学、硬质合金加工等领域，材料表面的超精密抛光直接决定了产品的性能与可靠性。吉致电子凭借先进的研发实力和成熟的工艺技术，推出高性能金刚石抛光液/研磨液系列产品，为高硬度材料提供高效、稳定的抛光解决方案。

吉致电子金刚石悬浮液产品（研磨液/抛光液）可满足不同抛光需求，根据材料特性和工艺要求分为以下几类：

1. 按晶体结构分类

单晶金刚石抛光液：晶体结构单一，切削力均匀，适合高精度表面抛光，减少亚表面损伤。

多晶金刚石抛光液：由多向晶粒组成，材料去除率高，适用于高效粗抛和中抛。

类多晶金刚石抛光液：兼具单晶和多晶优势，平衡切削效率与表面质量，适合过渡抛光阶段。

2. 按溶剂基质分类

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水基金刚石研磨液：环保易清洗，适用于半导体硅片、碳化硅（SiC）晶圆等精密电子元件的抛光。

油基金刚石研磨液：润滑性更佳，适合硬质合金、陶瓷等高硬度材料的长时间稳定研磨。

3. 按粒径规格分类

吉致电子提供1μm、3μm、6μm、7μm、9μm等多种粒径的金刚石抛光液，满足不同抛光阶段的需求：

粗抛（6μm~9μm）：快速去除材料，提高加工效率。

中抛（3μm~6μm）：平衡切削力与表面质量。

精抛（1μm~3μm）：实现超光滑表面，降低粗糙度。

吉致电子金刚石研磨液/抛光液应用适配性：

• ①半导体行业：硅片、碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）晶圆的平坦化抛光。

• ②硬质合金 & 精密陶瓷：刀具、轴承、陶瓷基板等超精密加工。

• ③光学元件：蓝宝石、光学玻璃等的高光洁度抛光。

  
  

• 吉致电子提供定制化CMP抛光研磨解决方案

可根据不同材质（如SiC、钨钢、陶瓷）及客户需求，提供个性化CMP抛光液调配，优化抛光效率与表面质量。

吉致电子深耕抛光材料领域，凭借高纯度金刚石微粉、先进的分散技术、定制化配方，为半导体、精密光学、硬质合金等行业提供高效、稳定、高性价比的抛光解决方案。

如果您正在寻找高硬度材料的CMP抛光优化方案，欢迎联系我们，获取定制化产品推荐与技术支援！

无锡吉致电子科技有限公司