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半导体抛光液 蓝宝石抛光液/研磨液
磨料类型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒径:专利化学配方/可定制
蓝宝石抛光液/研磨液·参数吉致电子,CMP抛光材料 可定制·速率高·效果好·专利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA
产品名称:蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液
产品简介:为半导体行业/光学行业调配的蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry组合浆料,适用于蓝宝石基片、外延片、LED的平坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范,在蓝宝石基片抛光应用中提供了高性能和低成本的解决方案。
吉致电子CMP蓝宝石研磨液/抛光液特点——
1.用于大规模制造蓝宝石晶片的高性能浆料。
2.配方设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范,用于取向的蓝宝石晶圆,即C向、A向、R向抛光。
3.实现高去除率,无亚表面损伤,并提供出色的稳定性,可循坏使用。
4.吉致电子蓝宝石Slurry抛光液组合可提供性能佳且具有成本效益的解决方案。
6.可根据抛磨要求1V1提供定制解决方案。
吉致电子蓝宝石浆料Sapphire Slurry应用
为光学表面提供高光洁度
抛光相关类型的表面(研磨或机械抛光)以实现原子级光滑的表面光洁度
吉致电子蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液 广泛应用于CMP领域,包括Lapping机、五轴机台、以及其他研磨抛光机台等
蓝宝石衬底抛光液抛光过程中具有:
吉致电子蓝宝石抛光液设计满足从蓝宝石研磨到CMP的衬底制造蓝宝石A向、C向抛光等不同工艺阶段的规范,
从我们的优化解决方案能实现高去除率,无亚表面损伤,同时提供优异的稳定性。
吉致电子蓝宝石LED抛光液/Sapphire Slurry抛光液储存方法:
1.贮存时应避免曝晒,贮存温度为5-35℃
2.低于0℃以上储存,防止结冰,在无度以下因产生不可再分散结块而失效。
3.避免敞口长期与空气接触。
吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格:
吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备,特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。
本土化生产的优势使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快,品质好,抛光液价格实惠亲民。
吉致电子CMP抛光耗材适用范围
吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺和先进的生产设备,为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案!
吉致电子研发团队--15年经验CMP抛光液配方工程师,为您攻克抛光难题!
无锡吉致电子科技有限公司
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