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吉致电子抛光材料 源头厂家
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碳化硅晶圆抛光液 硅衬底抛光液 slurry抛光液

产品分类: 抛光液
    产品名称:碳化硅晶圆抛光液 硅衬底抛光液 slurry抛光液
    磨料类型:专利化学配方/可定制
    磨料粒径:专利化学配方/可定制
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      碳化硅晶圆抛光液·参数吉致电子,CMP抛光材料 可定制·速率高·效果好·专利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

      产品名称:碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液

      产品简介:电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能,提供了非常好的表面光洁度

       吉致电子 CMP抛光工作示意图

      吉致电子碳化硅抛光液特点:

      ·用于可扩展制造低缺陷功率和半绝缘 SiC(碳化硅)衬底的高性能Slurry抛光浆料。

      ·专为满足Sic晶圆基片C面、单晶硅、多晶硅从研磨到 CMP工艺各阶段的规格而设计

      ·定制硅晶圆工件 CMP 系统的优化解决方案,以提供较低的成本

      ·高抛光速率的抛光液配方,快速高效同时保持均匀性、零亚表面损伤和低缺陷/划痕

      ·Slurry抛光液可大批量制造 (HVM) 并与散装输送系统兼容

      ·可根据要求设计定制解决方案。


      抛光过程中具有:

      1.高抛光速率 --------精密的磨料和化学配方专门设计,用于SiC外延片碳化硅衬底上提供高去除率和低表面粗糙度

      2.高平坦度加工-----吉致碳化硅晶圆精抛液不会对加工件造成物理损伤,达到高平坦化加工

      吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方法:

      1.可根据抛光操作条件用去离子水进行5-20倍稀释。

      2.稀释后,粗抛时调节PH11左右,精抛时调节PH9.5左右。pH调节可以用10%的盐酸、醋酸、柠檬酸、KOH或氨水在充分搅拌下慢慢加入。

      3.循环抛光可以用原液。

      吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液储存方法:

      1.贮存时应避免曝晒,贮存温度为5-35℃

      2.低于0℃以上储存,防止结冰,在无度以下因产生不可再分散结块而失效。

      3.避免敞口长期与空气接触。

      吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液价格:

      吉致电子的碳化硅晶圆抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备,特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。

      本土化生产的优势使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快,品质好,抛光液价格实惠亲民。

      吉致电子研发团队--15年经验CMP抛光液配方工程师,为您攻克抛光难题!

      吉致电子 抛光液研发团队

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