吉致电子抛光材料 源头厂家
25年 专注CMP抛光材料研发与生产

铜化学机械抛光液·参数

可定制·速率高·效果好·专利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

产品名称：铜化学机械抛光液/CU CMP Slurry

铜化学机械抛光液作用: 

1、特选粒径均一的SiO₂水溶胶为磨料制成的抛光浆料。

2、金属离子含量低，研磨清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。

3、与同类产品相比，具有金属离子含量低、易清洗、稀释比例高等特点。

4、客户在使用过程中通过优化稀释比例，均能达到最佳抛光效果。

*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务

*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务

铜CMP要求—开始阶段大量快速去 除铜；后期速率减缓，低缺陷，逐  步实现平坦化效果；平坦化的关键—缓蚀剂具有强配位作用，保护铜表面不形成腐蚀缺陷。

吉致电子铜化学机械抛光液产品粗糙度测试数据优于竞品抛光液。吉致电子cu cmp slurry在加入H₂O₂ 24h后RR仍保持稳定,RR为原来的99%;且批次的RR值保持稳定。

推荐工艺：

使用前将铜抛光液原液加入去离子水和双氧水，稀释比例约为:slurryDIW:H2O2(净含量)-1:10:0.07 or 1:8:0.07。
抛光盘转速: 详细数据可联系吉致电子技术

也可根据客户要求调整CMP工艺，表面平均粗糙度 Ra低于0.2mm。抛光垫优选吉致电子聚氨酯类粗抛垫。

吉致电子铜化学机械抛光液抛光液储存方法：

通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射及冻结，零度以下因产生不可再分散结块而失效。

吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：

吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。

本土化生产的优势使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。

吉致电子CMP抛光耗材适用范围

吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺和先进的生产设备，为金属钼、不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

吉致电子研发团队--15年经验CMP抛光液配方工程师，为您攻克抛光难题！

无锡吉致电子科技有限公司

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