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氟化钡晶体抛光液 BaF2化学机械抛光液Slurry|解决晶体雾化/亚表面损伤
产品名称：氟化钡抛光液/BaF2 CMP抛光液/光学晶体CMP抛光液
产品特点：吉致电子氟化钡(BaF?)CMP抛光液，红外窗口/核探测专用光学级氟化钡抛光液，解决晶体雾化/亚表面损伤，纳米级低残留抛光液适合高精度闪烁体/激光晶体表面处理。
氟化钡晶体CMP抛光液·参数吉致电子|CMP抛光材料 可定制·速率高·效果好·专利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA
产品名称：无划痕氟化钡抛光液|解决晶体雾化/亚表面损伤|光学晶体CMP化学机械抛光液
氟化钡晶体CMP抛光液作用: 吉致电子专为氟化钡晶体BaF2研发设计的化学机械抛光CMP抛光液，通过纳米级磨料与化学添加剂协同作用，实现晶体表面超光滑、低损伤加工，满足红外光学、紫外窗口、核辐射探测等领域的高端需求。
吉致电子可提供各光学晶体/玻璃/红外窗口CMP抛光液及解决方案
超精密抛光
表面粗糙度（Ra）≤ 0.5 nm，实现原子级平整度。
去除率可控（0.1-1.5 μm/min），适配不同工艺阶段。
低缺陷工艺
纳米级二氧化硅/氧化铈复合磨料，减少划痕和亚表面损伤。
pH值稳定（8.0-10.5），避免晶体腐蚀或水解。
高材料兼容性
优化配方适配氟化钡晶体特性，避免氟元素流失和表面雾化。
环保安全
无重金属、低VOC排放，符合RoHS 2.0标准。
废液易处理，降低环保成本。
*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务
*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务
通过优化CMP工艺参数，氟化钡晶体可实现纳米级超光滑表面，满足高端光学和辐射探测器的严苛要求。无锡吉致电子提供专业的氟化钡CMP抛光解决方案，如需进一步技术咨询，欢迎联系我们的工程师团队！
为什么选择吉致电子？氟化钡晶体抛光液厂家直销｜BaF2化学机械抛光液，纳米级，低残留，支持定制
①10年光学材料CMP经验，服务全球100+科研/工业客户。
②免费工艺调试，提供技术文档与售后支持。
③抛光方案及配方灵活定制，根据客户需求调整磨料浓度、添加剂配方。
吉致电子氟化钡抛光液储存方法：
通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射及冻结，零度以下因产生不可再分散结块而失效。
吉致电子的光学晶体CMP抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。
本土化生产的优势使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。
吉致电子CMP抛光耗材适用范围
吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺和先进的生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！
吉致电子研发团队--15年经验CMP抛光液配方工程师，为您攻克抛光难题！
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