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晶圆抛光液--磷化铟Inp Slurry CMP抛光液
磨料类型：SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒径：专利化学配方/可定制
磷化铟InP抛光液/Slurry·参数吉致电子，CMP抛光材料 可定制·速率高·效果好·专利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA
产品名称：磷化铟晶圆抛光液/InP Slurry/CMP化学机械抛光/半导体抛光液
产品简介：为半导体行业/光学行业调配的磷化铟InP抛光液/CMP Slurry组合浆料，适用于磷化铟晶圆的坦化加工。设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，在磷化铟晶圆抛光应用中提供了高性能和低成本的解决方案。
吉致电子CMP磷化铟研磨液/抛光液特点——
1.配方设计满足从研磨到CMP的衬底制造的各个工艺阶段的规范，用于磷化铟晶圆的快递减薄和抛光。
3.实现InP表面高去除率，无亚表面损伤，并提供出色的稳定性，可循坏使用。
4.吉致电子蓝宝石Slurry抛光液组合可提供性能佳且具有成本效益的解决方案。
5.可根据抛磨要求1V1提供定制解决方案。
吉致电子磷化铟InP Slurry应用
为光学表面提供高光洁度
抛光相关类型的表面（研磨或机械抛光）以实现纳米级光滑的表面光洁度
吉致电子磷化铟研磨液/InP晶圆抛光液 广泛应用于CMP领域，包括Lapping机、五轴机台、以及其他研磨抛光机台等
磷化铟CMP抛光液抛光过程中具有：
吉致电子磷化铟抛光液满足不同工艺阶段的规范，
从我们的优化解决方案能实现高去除率，无亚表面损伤，同时提供优异的稳定性。
1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃
2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。
3.避免敞口长期与空气接触。
吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：
吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。
本土化生产的优势使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。
吉致电子CMP抛光耗材适用范围
吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺和先进的生产设备，为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！
吉致电子研发团队--15年经验CMP抛光液配方工程师，为您攻克抛光难题！
无锡吉致电子科技有限公司
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