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[常见问题]二氧化硅抛光液与硅溶胶抛光液有啥不同[ 2023-08-11 16:04 ]
  二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料,经特殊工艺制备成的一种低金属离子高纯度CMP抛光产品。 硅溶胶抛光液是以液体形式存在,直径为10-150nm的二氧化硅粒子(分散相)在水或有机液体(分散介质)里的分散体系,粒子的形貌多为球形,适用于各类工件的镜面抛光,如金属、蓝宝石衬底、半导体、光学玻璃、精密电子元器件等的镜面抛光。 本质上讲二氧化硅抛光液、硅溶胶抛光液都是一种东西,主要成分都是SiO2只是叫法不同。在CMP研磨抛光工艺中,机器通过压力泵把氧化硅抛光液输送到抛光槽内进行循环使用,
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[常见问题]蓝宝石抛光用什么抛光液[ 2023-07-28 17:29 ]
  在生产蓝宝石衬底的时候产生裂痕和崩边现象的比例比较高,占总是的5%-8%。我国蓝宝石批量生产的技术还很不成熟,切割完的蓝宝石晶片有很深的加工痕迹,抛光后易形成很深的麻坑或划伤。因此需要通过CMP研磨抛光技术来达到工件平坦度,抛光过程中影响抛光质量的因素有很多,如抛光液的组分和PH值、压力、温度、流量、转速和抛光垫的质量等。  蓝宝石晶圆的抛光需要对抛光液材质有很高的要求,磨料太软会导致抛光时间过长而抛光效果不理想。目前抛蓝宝石合适的是钻石抛光液,钻石抛光液磨料是采用金刚石,有很高的硬度,搭配
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[行业资讯]蓝宝石窗口平面加工--蓝宝石研磨液[ 2023-05-09 17:07 ]
 蓝宝石平面视窗、精密质量蓝宝石视窗、高精度质量蓝宝石视窗是为各种光学、机械和电子应用提供了强度、耐磨性、化学惰性适用于光学和激光应用,这些蓝宝石窗口设计用于关键的光学和激光应用。蓝宝石窗口的制程中关键步骤需要用到CMP研磨抛光工艺,蓝宝石研磨液适合用于大批量蓝宝石窗口的生产应用。  蓝宝石抛光液以高纯度氧化硅原料制备而成,具有悬浮性好,不易结晶,易清洗等特点。用于蓝宝石工件的镜面研磨,研磨后的工件表面粗糙度低,无划伤,表面质量度高。吉致电子生产研发的蓝宝石窗口CMP抛光研磨液,性能稳
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[应用案例]蓝宝石晶圆研磨抛光[ 2022-12-28 13:57 ]
  蓝宝石晶片抛光的目的是将衬底的最终厚度减小到所需的目标值,具有优于+/- 2μm的TTV和小于2nm的表面粗糙度。这些操作要求需要具有高精度,高效率和高稳定性的机器和工艺,使用吉致电子蓝宝石抛光液和抛光垫进行CMP研磨抛光即可实现这一过程。  通过使用CMP抛光工艺,可以达到理想的表面粗糙度。每个抛光的蓝宝石晶片在加工过程中都会有均匀一致的材料去除,并且表面光洁度始终如一。通过改变压力负载,可以实现每小时1-2μm的材料去除率(MRR)。  蓝宝石晶片抛光分为A向抛光和C向抛光。从
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