吉致资讯第124期 陶瓷镜面抛光工艺
陶瓷工艺品有着光鲜靓丽的外表,很多人深深被这它的艺术性所吸引,那么这种效果是如何实现的呢?让小编慢慢为您揭晓它的抛光工艺:
1、研磨工序:
研磨的目的是为了获得平整光滑的磨面,研磨分为粗磨和精磨两种:
(1)粗磨:是将粗糙的表面和不规则外形修正成行。
(2)精磨:经过粗磨后金属表面尚有很深的磨迹,需要在细磨中消除,为抛光做准备。
2、镜面抛光工序:
抛光工序是为了获得光亮似镜的表面加工过程,多数采用抛光轮来反复磨光后的无件表面上微小的不平,通用于镀层表面的装饰。
抛光是镀层表面或无件表面后一道工序,其目的是要消除=在磨光工序后还残留在表面上的细微磨痕。理想的抛光面应该是平整、光亮、无痕、无坑、无金属扰乱层的似镜面状态的表面。
作为抛光行业的吉致公司,多年来一直致力于抛光产品的研发生产,始终处于抛光行业的领头地位,吉致公司真诚期待新老客户的合作!
━━━━━━━━━━━━━━━◆分割线◆━━━━━━━━━━━━━━━
『抛光皮』
抛光皮种类:阻尼布抛光皮,聚氨酯抛光皮,白磨皮抛光皮
『抛光液』
抛光液种类:氧化硅抛光液,氧化铝抛光液,金刚石抛光液
『吉致电子』抛光材料 源头厂家 25年专注CMP抛光材料研发与生产
高速抛磨精密表面 高效·环保·安全
转载需附出处及原文链接 http://www.jzdz-wx.com/
无锡吉致电子科技有限公司
咨询热线:17706168670
此文关键字:陶瓷抛光 粗磨 精磨
相关资讯
最新产品
同类文章排行
- 吉致电子荣获第四届亚太碳化硅及相关材料国际会议“优秀组织奖”
- 吉致电子科技碳化硅研磨液的作用
- 吉致电子手机中框抛光液及智能穿戴设备表面处理
- 蓝宝石衬底研磨用什么抛光液
- 半导体先进制程PAD抛光垫国产替代进行中
- CMP在半导体晶圆制程中的作用
- TSV抛光液---半导体3D封装技术Slurry
- 蓝宝石窗口平面加工--蓝宝石研磨液
- 什么是OX研磨液?吉致电子氧化层抛光液性能有哪些?
- 半导体行业CMP化学机械平坦化工艺Slurry
最新资讯文章
您的浏览历史
