光学玻璃是光学元件的核心基材，其表面精度直接影响光学系统的成像、透光和使用寿命。随着高端光学领域需求提升，超精密抛光需达到纳米级粗糙度、无损伤、高透光且环保，这成为行业痛点。吉致电子推出纳米级氧化硅抛光液，精准解决这一难题，精准破解光学玻璃超精密抛光难题，根据最近光学领域客户的实际应用案例，带您领略化学机械抛光工艺结合吉致电子CMP抛光液的硬核实力。

【客户应用需求】

南京某光学仪器企业，专注于高精度光学石英玻璃镜片、棱镜的研发与生产，其产品广泛应用于高端光学检测仪器、激光设备等领域。该企业面临的核心需求是实现镜片表面超精密抛光，彻底去除前道加工留下的痕迹，使表面粗糙度严格控制在≤0.13nm；同时，需最大限度保证镜片原有透光率不受抛光过程影响，杜绝划伤、蚀坑等表面缺陷，确保产品适配高端光学系统的高成像质量要求；此外，考虑到绿色生产理念与生产成本控制，该企业还要求抛光液无杂质、低污染，且具备良好的使用稳定性与可循环性。

【吉致电子解决方案】

针对该企业的核心痛点，吉致电子结合自身在抛光材料领域的技术积淀，为其定制了专属超精密抛光解决方案，核心采用吉致电子纳米级氧化硅抛光液，搭配优化后的CMP化学机械抛光工艺，实现精度与效率、环保的多重兼顾。

吉致纳米级氧化硅抛光液采用高纯度原料制备，粒径精准控制在60nm左右，颗粒均匀度高、无任何杂质，从源头避免了杂质颗粒对光学玻璃表面的二次划伤，契合高端光学加工对抛光介质的纯净度要求。同时，搭配低压力、低磨料体积分数的CMP抛光工艺，大幅减少机械研磨作用对玻璃表面及亚表面的损伤，降低表面缺陷产生的概率；抛光液中特别添加专用助剂，有效增强质量传递作用，巧妙平衡了抛光效率与表面质量，彻底解决了传统抛光工艺中“效率与精度不可兼得”的行业难题，从根本上避免表面及亚表面损伤、蚀坑等常见缺陷。

【吉致电子方案应用效果】

该解决方案落地应用后，取得了超出客户预期的抛光效果，完美满足高端光学玻璃的加工要求。经检测，光学玻璃抛光后表面粗糙度低至0.126nm，远超客户≤0.13nm的要求，表面无任何划伤、蚀坑等缺陷，镜面平整度达到亚纳米级标准；同时，镜片透光率保持在99%以上，完全保留了光学玻璃的原有光学性能，适配高端光学系统的高成像质量需求，有效提升了客户产品的核心竞争力。

在生产效率与成本控制方面，该方案同样表现突出：抛光过程全程稳定，吉致电子氧化硅抛光液无团聚、无沉淀现象，可实现循环使用，大幅降低耗材损耗，经统计，耗材损耗较客户原有方案降低28%；同时，优化后的抛光工艺与高性能抛光液协同作用，使抛光工时缩短18%，有效提升了光学镜片的生产效率与产品合格率，帮助客户实现了降本增效的双重目标，获得了客户的高度认可。

【吉致技术核心支撑】

吉致电子深耕CMP抛光材料领域，服务千余家客户，其抛光液通过配方优化，实现颗粒均匀性、纯度与分散稳定性突破，适配超精密加工需求。未来，吉致电子将持续创新，助力光学制造企业升级与进口替代。

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