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吉致电子玻璃硬盘专用CMP抛光液|光储半导体行业超精密抛光技术
产品名称:光储玻璃硬盘/玻璃光盘CMP抛光液
产品特点:吉致电子光储玻璃介质抛光液Slurry纳米级抛光,低缺陷率。硬盘/光学玻璃专用,国产替代进口
- 精密陶瓷抛光液 CMP纳米级抛光液
- 吉致电子·精密陶瓷件抛光液·半导体抛光液
产品名称:氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液
产品特点:适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光
- SiC碳化硅衬底研磨抛光产品
- 吉致电子·碳化硅研磨抛光·半导体晶圆抛光
产品名称:碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅SIC研磨垫/Sic精抛垫
产品特点:Politex抛光垫FUJIBO抛光垫国产替代
- 半导体抛光液 铌酸锂LiNbO3晶圆抛光液
- 产品名称:铌酸锂晶体抛光液/铌酸锂抛光浆料/LN抛光液
磨料类型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒径:专利化学配方/可定制
玻璃硬盘CMP抛光液·参数吉致电子|CMP抛光材料 可定制·速率高·效果好·专利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA
产品名称:玻璃硬盘 玻璃光盘抛光液|光学存储介质及半导体级玻璃基板CMP化学机械抛光液
玻璃硬盘CMP抛光液作用: 吉致电子JEEZ玻璃硬盘专用CMP化学机械抛光研磨液/抛光液,专为玻璃光盘、玻璃硬盘、光学存储介质及半导体级玻璃基板设计,提供纳米级平坦化与超低表面粗糙度(Ra<0.5nm)的抛光解决方案。本产品采用高纯度氧化铈(CeO2)与定制化SiO2胶体磨料,结合独家化学腐蚀配方,实现玻璃光盘的高效、低缺陷抛光,满足光存储(如微软Project Silica)、半导体封装(如2.5D/3D IC转接板)等高端应用需求。
吉致电子可提供各光学晶体/玻璃/红外窗口/半导体CMP抛光液及解决方案
1. 超精密表面处理
原子级光滑:表面粗糙度AFM检测,确保玻璃光盘数据层无干扰读写。
2. 高材料去除率(MRR)与选择性
MRR≥500nm/min(石英玻璃),同时抑制凹陷(Dishing)<1%。
pH智能调节,优化玻璃表面化学反应速率,减少机械损伤。
3. 环保与稳定性
无重金属配方,符合欧盟RoHS标准,废液易处理。
悬浮稳定性好,颗粒分散均匀,杜绝团聚划伤。
4. 全场景适配
兼容8-12英寸玻璃基板,支持CMP设备(如AMAT、Ebara、华海清科)集成。
*可以依客户不同工艺要求,提供定制化服务
*提供全套解决方案,及免费安排工程师上门服务
通过优化CMP工艺参数,玻璃硬盘可实现纳米级超光滑表面,满足高端光储行业严苛要求。无锡吉致电子提供专业的玻璃硬盘CMP抛光解决方案,如需进一步技术咨询,欢迎联系我们的工程师团队!
为什么选择吉致电子?玻璃硬盘抛光液厂家直销|CMP化学机械抛光液,纳米级,无残留,支持定制
①10年+CMP耗材研发生产经验,服务全球100+科研/工业客户。
②免费工艺调试,提供技术文档与售后支持。
③抛光方案及配方灵活定制,根据客户需求调整磨料浓度、添加剂配方。
吉致电子玻璃硬盘抛光液储存方法:
通风,阴凉,干燥的库房,本品需在5-35℃储存,防止阳光直射及冻结,零度以下因产生不可再分散结块而失效。
吉致电子的光学晶体CMP抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备,特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。
本土化生产的优势使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快,品质好,抛光液价格实惠亲民。
吉致电子CMP抛光耗材适用范围
吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺和先进的生产设备,为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案!
吉致电子研发团队--15年经验CMP抛光液配方工程师,为您攻克抛光难题!
无锡吉致电子科技有限公司
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产品特点:Politex抛光垫FUJIBO抛光垫国产替代
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- 产品名称:铌酸锂晶体抛光液/铌酸锂抛光浆料/LN抛光液
磨料类型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒径:专利化学配方/可定制
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