吉致电子抛光材料 源头厂家
25年 专注CMP抛光材料研发与生产

铌酸锂抛光液/研磨液·参数吉致电子，CMP抛光材料 可定制·速率高·效果好·专利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

产品名称：铌酸锂抛光液,铌酸锂晶圆抛光浆料,铌酸锂研磨抛光液,LN抛光液

产品简介：为半导体行业/铌酸锂晶体晶圆制备的化学机械抛光液/Slurry组合浆料，适用于LiNbO₃精密/超精密领域的平坦化高效加工。设计满足铌酸锂（LiNbO₃）晶圆提高材料去除率，降低表面粗糙度，获得超光滑表面。

吉致电子铌酸锂抛光液特点——

1.用于大规模制造LiNbO₃晶片的高性能CMP抛光浆料。

2.经特殊工艺合成，纳米颗粒呈球形，单分散，大小均匀，粒径分布窄，可获得高质量的抛光精度。

3.实现高去除率，无亚表面损伤，并提供出色的稳定性。

4.PH、粒径、稳定离子等可以根据要求定制。

5.适合与各种抛光垫配合抛光使用。

吉致电子铌酸锂抛光浆料LN Slurry应用

为光学表面提供高光洁度

抛光相关类型的表面（研磨或机械抛光）以实现原子级光滑的表面光洁度

吉致电子铌酸锂（LiNbO₃）晶体抛光液 广泛应用于CMP领域，包括Lapping机、五轴机台、以及其他研磨抛光机台等

铌酸锂晶圆抛光液抛光过程中具有：

从我们的优化解决方案能实现高去除率，无亚表面损伤，同时提供优异的稳定性。

吉致电子铌酸锂晶圆抛光液/LiNbO₃Slurry抛光液储存方法：

1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃

2.低于0℃以上储存，防止结冰，在无度以下因产生不可再分散结块而失效。

3.避免敞口长期与空气接触。

吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格：

吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。

本土化生产的优势使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。

吉致电子CMP抛光耗材适用范围

吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺和先进的生产设备，为不锈钢、铜、铝、塑胶、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！

吉致电子研发团队--15年经验CMP抛光液配方工程师，为您攻克抛光难题！

无锡吉致电子科技有限公司

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