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地址：江苏省无锡市新吴区行创四路19-2
SiC碳化硅衬底研磨抛光产品
产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅SIC研磨垫/Sic精抛垫
产品特点：Politex抛光垫FUJIBO抛光垫国产替代
- 精密陶瓷抛光液 CMP纳米级抛光液
- 吉致电子·精密陶瓷件抛光液·半导体抛光液
产品名称：氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液
产品特点：适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光
- 阻尼布抛光垫/碳化硅精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代
- 吉致电子抛光垫
产品名称：碳化硅精抛垫/阻尼布抛光垫/绒面抛光垫
产品厚度：0.6mm-3mm（可定制）
产品直径：φ300-φ1300mm（可定制）
产品特点：Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代
- 半导体抛光液 铌酸锂LiNbO3晶圆抛光液
- 产品名称：铌酸锂晶体抛光液/铌酸锂抛光浆料/LN抛光液
磨料类型：SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒径：专利化学配方/可定制
碳化硅衬底研磨抛光·工艺吉致电子，CMP抛光材料 可定制·速率高·效果好·专利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA
产品分类：吉致电子·碳化硅研磨抛光·半导体晶圆抛光
产品名称：碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅SIC研磨垫/Sic精抛垫
吉致电子针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时显著提高材料去除率。
产品工艺及用途：适用于SiC碳化硅衬底DMP和CMP工艺制程，有效提升效率以及良率，碳化硅抛光液/抛光垫实现国产化替代。
碳化硅SiC研磨工艺·粗研磨/精研磨
吉致电子SIC衬底CMP粗磨/精磨工艺：Tip1粗磨液+研磨垫，Ra可达1.22nm及以下;Tip2精磨液+研磨垫，Ra可达0.45nm及以下。
碳化硅SiC抛光工艺·粗抛光/精抛光
吉致电子SIC衬底CMP粗抛/精抛工艺：Tip3粗抛液+研磨垫，Ra可达0.13nm及以下;Tip4精抛液+精抛垫，Ra可达0.06nm及以下。
想了解更多碳化硅CMP抛光工艺参数与方案，欢迎来电咨询
吉致电子SiC碳化硅抛光液储存方法：
通风，阴凉，干燥的库房，本品需在5-35℃储存，防止阳光直射及冻结，零度以下因产生不可再分散结块而失效。
吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备，特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。
本土化生产的优势使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快，品质好，抛光液价格实惠亲民。
吉致电子CMP抛光耗材适用范围
吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺和先进的生产设备，为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案！
吉致电子研发团队--15年经验CMP抛光液配方工程师，为您攻克抛光难题！
无锡吉致电子科技有限公司
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产品名称：氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液
产品特点：适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光
- 阻尼布抛光垫/碳化硅精抛垫/Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代
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产品名称：碳化硅精抛垫/阻尼布抛光垫/绒面抛光垫
产品厚度：0.6mm-3mm（可定制）
产品直径：φ300-φ1300mm（可定制）
产品特点：Politex抛光垫FUJIBO抛光垫替代
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- 产品名称：铌酸锂晶体抛光液/铌酸锂抛光浆料/LN抛光液
磨料类型：SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
磨料粒径：专利化学配方/可定制
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