目前，蓝宝石基片是LED工业的首选衬底，蓝宝石表面的质量对LED器件的质量和性能有着非常重要的影响。因此，在生产蓝宝石基片时，对后一道工序抛光加工工序有很高的要求，要求蓝宝石基片的表面光滑、无缺陷，这也是蓝宝石衬底重要的制程。但是，由于蓝宝石晶体材料硬度高，脆性大，属于典型的难加工材料之一。因此，如何让抛光加工满足日益增长的严格要求长期以来备受关注。如今的化学机械抛光是一可实现全局平坦化的抛光方法，而且它的成本相对较低，也是迄今为止可以在蓝宝石生产中大规模应用的抛光方法。硅溶胶为纳米的二氧化硅颗粒，在水中或溶剂中的分散液，属于胶体溶液，由于它价格实惠，分散稳定性性较好，因此广泛应用于集成电路化学机械抛光液中。

由于科学技术的进步，人们在蓝宝石抛光液的研究方面取得了较大进展，硅溶胶抛光液在更广泛的领域内得到应用，美国新泽西州立大学研究了水相介质对蓝宝石抛光的重要性，提出了在以氧化铝为磨料的抛光液中，蓝宝石表面会形成一层硬度较小、易于去除的水化层，从而加快去除速率，保证了表面质量。

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『抛光皮』

抛光皮种类：阻尼布抛光皮，聚氨酯抛光皮，白磨皮抛光皮 

『抛光液』

抛光液种类：氧化硅抛光液，氧化铝抛光液，金刚石抛光液 

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