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吉致电子抛光材料 源头厂家
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精密陶瓷抛光液 CMP纳米级抛光液

产品分类: 抛光液
    吉致电子·精密陶瓷件抛光液·半导体抛光液
    产品名称:氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液
    产品特点:适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光
    订购热线:17706168670
    SiC碳化硅衬底研磨抛光产品
    SiC碳化硅衬底研磨抛光产品
    吉致电子·碳化硅研磨抛光·半导体晶圆抛光
    产品名称:碳化硅研磨液/碳化硅抛光液/碳化硅SIC研磨垫/Sic精抛垫
    产品特点:Politex抛光垫FUJIBO抛光垫国产替代
    半导体抛光液 铌酸锂LiNbO3晶圆抛光液
    半导体抛光液 铌酸锂LiNbO3晶圆抛光液
    产品名称:铌酸锂晶体抛光液/铌酸锂抛光浆料/LN抛光液
    磨料类型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
    磨料粒径:专利化学配方/可定制
    半导体抛光液 浅沟槽隔离抛光液 STI抛光液
    半导体抛光液 浅沟槽隔离抛光液 STI抛光液
    产品名称:浅槽隔离抛光液/STI抛光液/浅沟槽隔离化学机械抛光液
    磨料类型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
    磨料粒径:10-150nm/全粒径可定制

      精密陶瓷件抛光液·参数

      可定制·速率高·效果好·专利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

      陶瓷抛光液 cmp抛光液

      产品名称:陶瓷抛光液/氧化锆抛光液/氧化铝抛光液/氮化硅抛光液/氮化铝抛光液

      精密陶瓷抛光液作用: 吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光,通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果,表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。

      吉致可提供各陶瓷类的镜面抛光液

      1、纳米级抛光液,抛光后具有较优的粗糙度

      2、抛光液绿色无污染、不含卤素及重金属元素

      3、抛光液可循环使用,根据工艺要求可添加去离子水稀释

      *可以依客户不同工艺要求,提供定制化服务

      *提供全套解决方案,及免费安排工程师上门服务

      新型陶瓷的耐高温、耐腐蚀、耐磨损、超硬性、超导性,远比传统陶瓷、现存的金属或非金属材料优越,通过CMP化学机械平面抛光工艺,结合吉致电子平面研磨机配合研磨液抛光液、研磨盘就可以达到理想镜面效果。

      为各类陶瓷提供CMP抛光液:氮化铝陶瓷抛光、氧化锆陶瓷抛光、氮化硅陶瓷抛光、氧化铝陶瓷抛光

      适用于:扫光机、双面研磨机、机械手抛光机



      吉致电子陶瓷抛光液储存方法:

      通风,阴凉,干燥的库房,本品需在5-35℃储存,防止阳光直射及冻结,零度以下因产生不可再分散结块而失效。

      吉致电子CMP抛光液/Slurry抛光液价格:

      吉致电子的CMP金属抛光液生产技术是引进国外生产技术和设备,特殊化学配方制备而成。吉致电子抛光液品质可以媲美进口同类产品。

      本土化生产的优势使吉致电子CMP抛光液产品交货周期快,品质好,抛光液价格实惠亲民。

      吉致电子CMP抛光耗材适用范围

      吉致电子科技有限公司拥有成熟的加工工艺和先进的生产设备,为不锈钢、铜、铝、陶瓷、导光板、五金产品、蓝宝石、光学玻璃等各类抛光加工服务。为您提供可靠有效的抛光解决方案!

      吉致电子研发团队--15年经验CMP抛光液配方工程师,为您攻克抛光难题!

      吉致电子 抛光液研发团队

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      产品名称:铌酸锂晶体抛光液/铌酸锂抛光浆料/LN抛光液
      磨料类型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
      磨料粒径:专利化学配方/可定制
      半导体抛光液 浅沟槽隔离抛光液 STI抛光液
      半导体抛光液 浅沟槽隔离抛光液 STI抛光液
      产品名称:浅槽隔离抛光液/STI抛光液/浅沟槽隔离化学机械抛光液
      磨料类型:SiO2/Al2O3/CeO2/ZrO2
      磨料粒径:10-150nm/全粒径可定制

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