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[行业资讯]CMP抛光液---复合磨料抛光液[ 2022-09-15 13:53 ]
  复合磨料抛光液  CMP抛光液产品除了混合磨料外,也有利用各种新兴材料制备复合磨料,常用的方法有纳米粒子包覆和掺杂等。如通过结构修饰改善纳米粒子的分散性、复合其他类型材料提升在酸、碱性抛光液中的综合性能等。  复合磨料抛光液相比混合磨料和单一磨料,在材料去除率及表面粗糙度方面均有明显的优势,能实现纳米级或亚纳米级超低损伤的表面形貌。但复合磨料的制备工艺相对比较复杂,目前仅处于实验室探索阶段,距离复合磨料在大规模生产上的应用还有较远的距离。  吉致电子科技25年抛光液生产厂
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[常见问题]磨料在CMP抛光液中的作用[ 2022-08-26 14:45 ]
  抛光磨料是CMP抛光液中的主要成分,在抛光过程中通过微切削、微擦划、滚压等方式作用于工件表面,达到机械去除材料的作用。  抛光液根据磨料成分一般分为单一磨料抛光液,混合磨料抛光液,复合磨料抛光液  磨料在CMP抛光过程中起到的作用为:(1)机械作用的实施者,起机械磨削作用;(2)传输物料的功能,不仅将新鲜浆料传输至抛光垫与被抛材料之间,还将反应物带离材料表面,使得材料新生表面露出,进一步反应去除。所以选择抛光液时记得考虑分散性好,流动性好,硬度适中,易于清洗的抛光液产品,有相关问题
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