复合磨料抛光液
  CMP抛光液产品除了混合磨料外，也有利用各种新兴材料制备复合磨料，常用的方法有纳米粒子包覆和掺杂等。如通过结构修饰改善纳米粒子的分散性、复合其他类型材料提升在酸、碱性抛光液中的综合性能等。
  复合磨料抛光液相比混合磨料和单一磨料，在材料去除率及表面粗糙度方面均有明显的优势，能实现纳米级或亚纳米级超低损伤的表面形貌，主要适用制备成半导体抛光液。但复合磨料的制备工艺相对比较复杂，目前仅处于实验室探索阶段，距离复合磨料在大规模生产上的应用还有较远的距离。

  吉致电子科技25年抛光液生产厂家，设立CMP耗材研发中心拥有多项抛光液发明专利，与国际化学机械抛光行业保持同步，研发生产性价比更好的抛光液产品，适用于金属行业、半导体行业、陶瓷行业、光电行业等，关注吉致动态，为您解决工件抛光难题！

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