- [吉致动态]CMP抛光液---纳米氧化铈抛光液的优点[ 2023-03-03 09:15 ]
- 通常化学机械研磨抛光工艺使用的CMP抛光液有金刚石抛光液、氧化硅抛光液、氧化铝抛光液及氧化铈抛光液(又称稀土抛光液)。 纳米氧化铈为水性液体是吉致电子采用先进的分散工艺,将纳米氧化铈粉体分散在水相介质中,形成高度分散化、均匀化和稳定化的纳米氧化铈水性悬浮液。1.在抛光材料应用中,纳米CeO2抛光液相对硅溶胶,具有抛光划伤少、抛光速度快、易清洗良品率高等优势,且PH中性,使用寿命长、对抛光表面污染小,不易风干。2.在抛光军用红外激光硅片、异型硅、超薄硅片方面上,尤其是抛光超薄硅片,纳米氧化铈
- http://www.jzdz-wx.com/Article/cmppgynmyh_1.html
- [常见问题]吉致电子---氧化铈研磨液在半导体CMP制程中的作用[ 2023-02-10 13:09 ]
- 粒径30-50nm的球形氧化铈研磨液用于半导体芯片制程:应用于芯片制程中氧化硅薄膜、集成电路STI(浅沟槽隔离层)CMP STI目前已成为器件之间隔离的关键技术,目前已取代LOCOS(硅的局部氧化)技术。其主要步骤包括在纯硅片上刻蚀浅沟槽、进行二氧化硅沉积、后用CMP技术进行表面平坦化。目前的研究表明采用纳米氧化铈作为CMP磨料,在抛光效率及效果上均优于其他产品。 纳米氧化铈抛光液在硅晶圆CMP平坦化的效果优异 粒径小于100nm的球形氧化铈抛光液用于单晶硅片表面C
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