通常化学机械研磨抛光工艺使用的CMP抛光液有金刚石抛光液、氧化硅抛光液、氧化铝抛光液及氧化铈抛光液（又称稀土抛光液）。

  纳米氧化铈为水性液体是吉致电子采用先进的分散工艺，将纳米氧化铈粉体分散在水相介质中，形成高度分散化、均匀化和稳定化的纳米氧化铈水性悬浮液。

1.在抛光材料应用中，纳米CeO₂抛光液相对硅溶胶，具有抛光划伤少、抛光速度快、易清洗良品率高等优势，且PH中性，使用寿命长、对抛光表面污染小，不易风干。

2.在抛光军用红外激光硅片、异型硅、超薄硅片方面上，尤其是抛光超薄硅片，纳米氧化铈较于硅溶胶，沥青盘聚氨酯抛光盘不会发生抖动，不会摆盘，而硅溶胶配沥青盘吸盘，吸力比较大，纳米氧化铈抛光液会更加稳定。

3.在抛光应用在硫系软玻璃材质，磨耗度＞450的软玻璃方面上，纳米氧化铈较于纳米钻石液，环球zoxn抛光液，氧化锆抛光液，光洁度更高，可以做到10-5，且稳定性极好，不会出现亮路隐划伤，易清洁。

4.氧化铈抛光液耐温性大于硅溶胶，水性硅溶胶存在温度升高抛光效率下降的现象，而氧化铈在50-80℃仍能保持良好的抛光效率。

吉致电子纳米氧化铈抛光液用途：集成电路光掩摸、精密光学、光学镜头、显示玻璃、多芯光钎连接器、蓝宝石玻璃、微晶玻璃、精密玻璃的抛光。

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