- [吉致动态]吉致电子Slurry抛光浆料--阻挡层抛光液[ 2022-11-11 13:26 ]
- 目前,超大规模集成电路芯片的集成度已经达到了数十亿个元件,特征尺寸已经达到了纳米级,这就需要微电子技术中的数百道工序,尤其是多层布线、衬底、介质等必须通过CMP化学机械技术,抛光液和抛光垫磨抛达到平坦化。VLSI布线正从传统的铝布线工艺向铜布线工艺转变。 铜材质具有快速迁移的特性,容易通过介质层扩散,导致相邻铜线之间漏电,进而导致器件特性失效。一般在沉积铜之前,在介质衬底上沉积扩散阻挡层,工业上已经广泛使用的阻挡层材料是tan/ta。 化学抛光(CMP)技术slurry抛光浆料
- http://www.jzdz-wx.com/Article/jzdzslurry_1.html
相关搜索
- 无相关搜索
吉致热门资讯
- 南京某手机外壳加工厂
- 上海某精磨玻璃抛光公司
- 广东硅晶片抛光厂
- 吉致应用案例:蓝宝石
- 吉致应用案例:陶瓷
- 吉致应用案例:钨钢
- 吉致资讯第56期:高性价比Leme蓝牙耳机
- 吉致资讯第64期:画家的福音“APPLE PENCIL”
- CMP抛光液的应用领域有哪些?
- 吉致资讯第118期:抛光垫性能对抛光液的影响
- 吉致资讯第119期 蓝宝石化学机械抛光液作用研究
- 吉致资讯第120期 诺基亚10 MAX长这样,这设计有点复古
- 吉致咨询第121期 海绵砂纸在模型打磨的应用
- 吉致咨询第122期 抛光液作用和浓度对工件的影响
- 吉致资讯第123期 如何正确选择合适的抛光液
- 吉致资讯第124期 陶瓷镜面抛光工艺
- 吉致资讯第125期 如何在研磨工艺中减免划痕
- 吉致资讯第126期 NASA正在研究混合动力客机:噪音更低、更省油
- 吉致咨资讯第127期 真人翻译评讯飞晓译翻译机:晚来10年的“翻译神器”
- 吉致资讯第128期 iPhone SE二代存在的意义 小尺寸大屏幕成终目