- [行业资讯]抛光液厂家--CMP抛光液用于几代半导体材料?[ 2023-02-17 15:50 ]
- CMP抛光液用于几代半导体材料? CMP抛光液越来越多的应用于第三代半导体材料的抛光,科研方向朝着攻克抛光液技术门槛和市场壁垒发展。CMP工艺的集成电路比例在不断增加,对CMP材料种类和用量的需求也在增加。更先进的逻辑芯片工艺可能会要求抛光新的材料,为CMP抛光材料带来了更多的增长机会。 目前,第三代半导体材料主要以碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)、氧化锌(ZnO)、金刚石、氮化铝(AlN)为代表的宽禁带半导体材料。这代半导体具有更宽的禁带宽度、更高的导热率、更高的抗辐射能力
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http://www.jzdz-wx.com/Article/pgycjcmppg_1.html
- [行业资讯]CMP抛光液厂家---苹果Logo专用抛光液[ 2023-02-09 16:35 ]
- 果粉们时常被MacBook,Iphone上闪闪发光的Apple Logo所惊艳到,那么苹果手机和笔记本上的金属Logo是如何实现镜面工艺的呢?
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http://www.jzdz-wx.com/Article/cmppgycjpg_1.html
- [吉致动态]氧化硅抛光液的结晶问题[ 2022-08-12 13:25 ]
- 氧化硅抛光液长时间暴露在空气中,会使水分蒸发剩下固体氧化硅,造成硅晶体析出现象,称之为结晶。在实际应用时,硅溶胶抛光液会一直在磨盘内旋转循环及流动,结晶现象较少,但是高温或抛光液浓度没有配置好,会造成团聚,损伤工件,影响抛光效果。根据二氧化硅的特性,吉致电子抛光液厂家开发了抗结晶纳米二氧化硅抛光液,可以长时间保持氧化硅稳定液体状态。抛磨工件时易摇散且不团聚,化学性能稳定分散均匀,氧化硅精抛液抛光效率高,能有效缩短工时,磨抛后工件呈现镜面效果,无划伤、高平坦。 外需要注意的是,氧化硅抛光液的
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