氧化硅抛光液的结晶问题
氧化硅抛光液长时间暴露在空气中,会使水分蒸发剩下固体氧化硅,造成硅晶体析出现象,称之为结晶。在实际应用时,硅溶胶抛光液会一直在磨盘内旋转循环及流动,结晶现象较少,但是高温或抛光液浓度没有配置好,会造成团聚,损伤工件,影响抛光效果。

根据二氧化硅的特性,吉致电子抛光液厂家开发了抗结晶纳米二氧化硅抛光液,可以长时间保持氧化硅稳定液体状态。抛磨工件时易摇散且不团聚,化学性能稳定分散均匀,氧化硅精抛液抛光效率高,能有效缩短工时,磨抛后工件呈现镜面效果,无划伤、高平坦。
外需要注意的是,氧化硅抛光液的储存温度为5-30℃,不得低于零度,因为分散液含水会结冰,这个过程是不可逆的。请注意存放,并在有效期内使用完毕。
本文由无锡吉致电子科技原创,版权归无锡吉致电子科技,未经允许,不得转载,转载需附出处及原文链接。http://www.jzdz-wx.com/
无锡吉致电子科技有限公司
联系电话:17706168670
邮编:214000
地址:江苏省无锡市新吴区行创四路19-2
相关资讯
最新产品
同类文章排行
- 吉致电子碲锌镉CMP抛光液:CZT软脆晶体抛光方案
- 吉致电子2026年与您同心同行,共赴新程
- 吉致电子CMP晶圆抛光液的特性与选型指南
- 国产替代|吉致电子硅片CMP抛光液Slurry
- 吉致电子:金刚石悬浮液的作用及功效(CMP抛光专用)
- 3C产品镜面抛光解决方案:无麻点SiO2氧化硅抛光液
- Fujibo抛光垫国产替代挑战与吉致电子解决方案
- 吉致电子:半导体陶瓷CMP工艺抛光耗材解析
- 先进制程下的CMP挑战:无纺布抛光垫技术演进与实践
- 碳化硅抛光垫选型指南:4道工序如何匹配CMP解决方案?
最新资讯文章
您的浏览历史






