- [行业资讯]探秘光学玻璃抛光液CMP工艺：吉致电子的技术革新[ 2025-11-28 17:32 ]
- 解锁CMP工艺：原理与优势在光学元件加工领域，化学机械拋光（CMP）是实现高精度表面平坦化的核心技术，通过化学腐蚀与机械研磨的协同作用，完成光学玻璃的精密加工。CMP工艺的核心是化学与机械作用的协同。抛光液中的化学试剂先与玻璃表面反应，形成一层易去除的软化层；这一化学预处理为后续机械研磨奠定基础，通过精准控制反应强度，确保软化层既易去除又不损伤玻璃本体。随后机械研磨启动，抛光垫上的磨料颗粒在特定压力和转速下，摩擦去除软化层。通过精确控制抛光压力、转速及磨料特性等参数，可实现材料去除量的精准把控，达到所需平坦化精度。
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