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[吉致动态]吉致电子CMP Pad化学机械抛光垫[ 2024-12-27 18:27 ]
吉致电子专注研发、设计、测试与生产制造CMP耗材,CMP PAD化学机械抛光垫用于半导体制造、平面显示器、光学玻璃、各类晶圆衬底材料、高精密陶瓷件、金属与硬盘基板的研磨抛光工艺。吉致电子CMP抛光垫采用精密涂布技术和科技材料能有效提升客户制程中的移除率和高平坦度、低缺陷等要求。吉致抛光垫团队从事高分子材料合成、发泡技术与复合材料研制已有多年经验,积累深厚的材料制造和研发基础.抛光垫产品因其特殊纤维材质,耐用、耐磨、耐酸碱,价比高。PAD产品包括且不限于:聚氨酯抛光垫、阻尼布精抛垫、复合抛光垫、绒面抛光垫、无纺布抛光
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