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吉致电子抛光材料 源头厂家
25年 专注CMP抛光材料研发与生产

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[常见问题]国产CMP抛光垫:吉致电子无纺布垫如何比肩Fujibo?[ 2025-08-14 14:46 ]
在化学机械抛光CMP工艺中,抛光垫CMP PAD对精密元件表面处理质量影响重大,高端市场长期被国际巨头垄断,国产替代抛光垫/研磨垫的需求强烈。无锡吉致电子凭借多年技术积累,研发的高性能无纺布及半导体抛光垫系列产品,可实现对Fujibo(富士纺)等进口品牌的替代,在抛光效率、使用寿命和本土定制化服务上优势显著。无纺布抛光垫的技术特点、应用场景及国产化突破意义,为相关行业提供高性价比抛光方案。吉致电子无纺布抛光垫,以特殊纤维结构和创新工艺,实现高耐磨性与优异抛光性能的结合。相比传统聚氨酯抛光垫,其三维网络孔隙能更有效输
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[吉致动态]半导体抛光垫---吉致电子Suba pad替代[ 2024-12-10 15:14 ]
 在半导体硅片、衬底、光学玻璃以及精密陶瓷等材料的加工领域,CMP抛光工艺是至关重要的环节,而CMP抛光垫(CMP Pad)则是这一环节中的关键因素之一。其中,由陶氏公司(Dow)生产的SUBA抛光垫(Suba Pad)备受瞩目。   陶氏公司生产的SUBA抛光垫在CMP化学机械研磨方面有着优异的抛光性能,尤其在抛光半导体晶圆方面效果显著。半导体晶圆和衬底是现代集成电路产业的基石,晶圆和衬底表面的平坦度、光洁度等直接影响芯片的性能和质量。SUBA抛光垫凭借其独特的材料和结构,能够使抛光过程达到一
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