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[行业资讯]金刚石悬浮液在半导体领域的应用[ 2024-11-26 16:03 ]
    金刚石悬浮液(CMP研磨液)在半导体集成电路领域的应用:适用于半导体晶圆抛光液CMP加工,蓝宝石衬底、碳化硅晶圆、氮化镓、磷化铟等半导体晶片。    金刚石悬浮液在半导体晶圆的CMP研磨抛光中发挥着重要作用。以蓝宝石衬底为例,蓝宝石材质硬度较高,传统的研磨液难以达到理想的抛光效果,而金刚石悬浮液因其高硬度、高韧性的金刚石颗粒,能够快速去除蓝宝石衬底表面的材料,同时保证加工表面的光洁度。对于碳化硅SiC和氮化镓、磷化铟等半导体晶片,金刚石悬浮液同样表
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