- [行业资讯]半导体芯片研磨液与CMP工艺:铸就芯片制造的基石[ 2024-11-05 15:10 ]
- CMP工艺在芯片制造的关键环节 在蓬勃发展的半导体产业中,芯片制造如同一场精细的艺术创作,而半导体芯片研磨与CMP工艺则是其中重要的环节。芯片制造是一个高度复杂的过程,涉及多个步骤,CMP工艺在这个过程中起着不可或缺的作用。 随着芯片制程不断缩小,对晶圆表面平整度的要求越来越高。如果晶圆表面不平整,在后续的光刻、刻蚀等工艺中,就会出现对焦精度不准确、线宽控制不稳定等问题,严重影响芯片的性能和质量。例如,当制造层数增加时,如果晶圆表面不平整,可能导致金属薄膜厚度不均进而影响电阻值
-
http://www.jzdz-wx.com/Article/bdtxpymyyc_1.html
相关搜索
- 无相关搜索
吉致热门资讯
-
吉致电子CMP精抛垫的作用有哪些
-
喜迎“六一”欢度“端午”----吉致电子员工团建活动
-
吉致电子---氧化硅抛光液的特点和作用
-
氧化硅抛光液的结晶问题
-
镜面抛光液---氧化硅抛光液在抛光中的作用
-
什么是金刚石研磨液
-
吉致电子纳米氧化硅抛光液的特点
-
吉致电子CMP抛光液适用设备有哪些?
-
纳米抛光液---纳米氧化铝抛光液
-
相聚吉致 欢度中秋---2022年吉致电子科技中秋团建活动
-
吉致电子 射频滤波器抛光液slurry厂家
-
吉致电子CMP不锈钢抛光液的特点
-
吉致电子浅槽隔离抛光液怎么用
-
不锈钢抛光液的CMP镜面抛光
-
吉致电子--不锈钢工件的研磨抛光工序
-
吉致电子Slurry抛光浆料--阻挡层抛光液
-
硅溶胶研磨液--精密工件镜面抛光效果秘密
-
2023吉致电子春节放假通知
-
吉致电子常见的CMP研磨液
-
CMP抛光液---纳米氧化铈抛光液的优点