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吉致电子抛光材料 源头厂家
25年 专注CMP抛光材料研发与生产

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[行业资讯]Apple Logo镜面抛光秘诀:吉致电子金属CMP抛光液解决方案[ 2025-07-25 15:25 ]
在高端消费电子领域,3C产品的每一个细节都至关重要。无论是iPhone的背面Logo,还是MacBook的金属标志,镜面级的抛光效果不仅提升了产品的质感,更代表了品牌对极致的追求。吉致电子金属Logo抛光液专为钛合金、铝合金、不锈钢等材质的标志抛光而研发,通过化学机械抛光(CMP)工艺,帮助客户实现高效、稳定的镜面效果,尤其适用于Apple产品标志的高标准要求。为什么选择吉致电子Logo抛光液?1. 纳米级抛光,镜面效果卓越采用纳米级磨料,确保抛光均匀性,避免划痕、麻点等问题。适用于粗磨、细磨、抛光全流程,显著提升
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[吉致动态]吉致电子常见的CMP研磨液[ 2023-02-27 16:15 ]
  CMP 化学机械抛光液slurry的主要成分包括:磨料、添加剂和分散液。添加剂的种类根据产品适用场景也有所不同,分金属抛光液和非金属抛光液。金属CMP抛光液含:金属络合剂、腐蚀抑制剂等。非金属CMP抛光液含:各种调节去除速率和选择比的添加剂。  根据抛光对象不同,抛光液可分为铜抛光液、钨抛光液、硅抛光液和钴抛光液等类别。其中,铜抛光液和钨抛光液主要用于逻辑芯片和存储芯片制造过程,在10nm 及以下技术节点中,钴将部分代替铜作为导线;硅抛光液主要用于硅晶圆初步加工过程中。吉致电子常见的CMP研
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