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[吉致动态]CMP抛光液---纳米氧化铈抛光液的优点[ 2023-03-03 09:15 ]
  通常化学机械研磨抛光工艺使用的CMP抛光液有金刚石抛光液、氧化硅抛光液、氧化铝抛光液及氧化铈抛光液(又称稀土抛光液)。  纳米氧化铈为水性液体是吉致电子采用先进的分散工艺,将纳米氧化铈粉体分散在水相介质中,形成高度分散化、均匀化和稳定化的纳米氧化铈水性悬浮液。1.在抛光材料应用中,纳米CeO2抛光液相对硅溶胶,具有抛光划伤少、抛光速度快、易清洗良品率高等优势,且PH中性,使用寿命长、对抛光表面污染小,不易风干。2.在抛光军用红外激光硅片、异型硅、超薄硅片方面上,尤其是抛光超薄硅片,纳米氧化铈
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[常见问题]吉致电子---氧化铈研磨液在半导体CMP制程中的作用[ 2023-02-10 13:09 ]
  粒径30-50nm的球形氧化铈研磨液用于半导体芯片制程:应用于芯片制程中氧化硅薄膜、集成电路STI(浅沟槽隔离层)CMP  STI目前已成为器件之间隔离的关键技术,目前已取代LOCOS(硅的局部氧化)技术。其主要步骤包括在纯硅片上刻蚀浅沟槽、进行二氧化硅沉积、后用CMP技术进行表面平坦化。目前的研究表明采用纳米氧化铈作为CMP磨料,在抛光效率及效果上均优于其他产品。  纳米氧化铈抛光液在硅晶圆CMP平坦化的效果优异  粒径小于100nm的球形氧化铈抛光液用于单晶硅片表面C
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[行业资讯]稀土抛光液--氧化铈抛光液的种类[ 2022-11-29 16:27 ]
  随着光学技术和集成电路技术的飞速发展,对光学元件的精密和超精密抛光以及集成电路的CMP抛光工艺的要求越来越高,甚至达到了极其苛刻的程度,尤其是在表面粗糙度和缺陷的控制方面。铈系稀土抛光液因其切削能力强、抛光精度高、抛光质量好、使用寿命长,在光学精密抛光领域发挥了极其重要的作用。吉致电子氧化铈抛光液的种类和固含量可按抛光工件的用途来分:根据氧化铈的含量,氧化铈抛光液可分为低铈、中铈和高铈抛光液,其切削力和使用寿命也由低到高。1.含95%以上氧化铈的铈抛光液呈淡黄色,比重约7.3。主要适用于精密光学镜片的
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[常见问题]什么是单一磨料的CMP抛光液?[ 2022-08-31 16:11 ]
单一磨料抛光液化学机械CMP抛光液在研究初期大多是使用单一磨料,如氧化铝抛光液(Al2O3)、二氧化硅抛光液(SiO2)、二氧化铈抛光液(CeO2)、氧化锆抛光液(ZrO2)和金刚石抛光液等。其中研究应用最多的是Al2O3、SiO2和CeO2磨料抛光液。氧化铝抛光液--Al2O3的硬度高,多用于蓝宝石、碳化硅、光学玻璃、晶体和合金材料的抛光,但含Al2O3的抛光液会出现选择性低、分散稳定性不好、易团聚的问题,容易在抛光表面造成划伤,一般需要配合各种添加剂使用才能获得良好的抛光表面。氧化硅抛光液--SiO2具有良好的
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[常见问题]怎么提高氧化铈抛光液的稳定性?[ 2022-07-26 15:28 ]
怎么提高氧化铈抛光液的稳定性?氧化铈抛光液主要用于玻璃、蓝宝石、光学及异形工件的抛磨,液体的分散悬浮状态决定抛光液的使用效果和抛磨效率。磨料比重较大的话容易沉底,同时出现团聚现象会极大影响抛光效果,甚至损坏抛光设备。吉致电子氧化铈抛光液的分散性、悬浮稳定性,主要与以下几个方面相关:1.分散剂种类,添加量;2.氧化铈抛光液的PH值;3.氧化铈抛光液的介质;注意这3点然后调整配方相信能获得稳定性佳的抛光液产品。吉致电子氧化铈抛光液由优质氧化铈微粉制备而成,纯度高,氧化铈含量高,配方分散性好、乳液均匀悬浮性佳。切削能力强
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[行业资讯]吉致电子--抛光液的主要成分和功能有哪些?[ 2022-07-22 16:52 ]
  抛光液的主要成分可分为以下几类:氧化铝抛光液、氧化铈抛光液、金刚石研磨液(聚晶钻石抛光液、单晶金刚石抛光液、纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液、碳化硅抛光液。  硅溶胶抛光液(氧化硅抛光液)是以高纯硅粉为原料,通过特殊工艺(如水解法)生产的高纯度低金属离子型抛光产品。广泛应用于多种纳米级材料的高平坦化抛光,如硅晶片、锗晶片、砷化镓、磷化铟等化合物半导体材料、精密光学器件、蓝宝石衬底、蓝宝石窗口等。  金刚石抛光液以金刚石微粉为主要成分,高分散配方,硬度高韧性好,有良好的高切削率,不易
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