稀土抛光液--氧化铈抛光液的种类
随着光学技术和集成电路技术的飞速发展,对光学元件的精密和超精密抛光以及集成电路的CMP抛光液工艺的要求越来越高,甚至达到了极其苛刻的程度,尤其是在表面粗糙度和缺陷的控制方面。铈系稀土抛光液因其切削能力强、抛光精度高、抛光质量好、使用寿命长,在光学精密抛光领域发挥了极其重要的作用。
吉致电子氧化铈抛光液的种类和固含量可按抛光工件的用途来分:
根据氧化铈的含量,氧化铈抛光液可分为低铈、中铈和高铈抛光液,其切削力和使用寿命也由低到高。
1.含95%以上氧化铈的铈抛光液呈淡黄色,比重约7.3。主要适用于精密光学镜片的高速抛光。该抛光粉性能优异,抛光效果好。
2.中铈CeO2抛光液,含氧化铈70%~85%,呈黄色或褐色,比重约6.5。主要适用于光学仪器中精密小球面透镜的高速抛光。
3.低铈稀土抛光液,含氧化铈40%~60%,适用于电视显像管、眼镜片和平板玻璃。
多种型号对应不同磨抛需求(查看更多型号请联系我们)
型号/type | JZ-CE20N | JZ-CE60N | JZ-CE80N | JZ-CE100N | JZ-CE800N | JZ-CE01 |
磨 料 | Ceo2 | Ceo2 | Ceo2 | Ceo2 | Ceo2 | Ceo2 |
平均粒径 | 0.02um | 0.06um | 0.08um | 0.1um | 0.8nm | 1.0um |
PH | 4-9 | 4-9 | 4-9 | 4-9 | 4-9 | 4-9 |
本文由无锡吉致电子科技原创,版权归无锡吉致电子科技,未经允许,不得转载,转载需附出处及原文链接。http://www.jzdz-wx.com/
无锡吉致电子科技有限公司
联系电话:17706168670
邮编:214000
地址:江苏省无锡市新吴区行创四路19-2
相关资讯
最新产品
同类文章排行
- 吉致电子荣获第四届亚太碳化硅及相关材料国际会议“优秀组织奖”
- 吉致电子科技碳化硅研磨液的作用
- 吉致电子手机中框抛光液及智能穿戴设备表面处理
- 蓝宝石衬底研磨用什么抛光液
- 半导体先进制程PAD抛光垫国产替代进行中
- CMP在半导体晶圆制程中的作用
- TSV抛光液---半导体3D封装技术Slurry
- 蓝宝石窗口平面加工--蓝宝石研磨液
- 什么是OX研磨液?吉致电子氧化层抛光液性能有哪些?
- 半导体行业CMP化学机械平坦化工艺Slurry
最新资讯文章
您的浏览历史
