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[行业资讯]蓝宝石衬底研磨用什么抛光液[ 2023-08-25 13:36 ]: CMP工艺怎么研磨蓝宝石衬底？需要搭配什么抛光液？蓝宝石抛光万能公式：粗抛、中抛、精抛，每道工序使用不同磨料的抛光液和抛光PAD：①蓝宝石CMP粗磨：蓝宝石衬底粗磨可以选择硬度高切削力强的吉致金刚石研磨液，搭配金刚石磨盘，速率高效果好可有效去除蓝宝石表面的不平和划痕。②蓝宝石CMP中抛：这一步可以用铜盘+小粒径的金刚石研磨液，用来去除粗抛留下的纹路，为镜面抛光做前期准备。③蓝宝石CMP精抛：CMP精抛是蓝宝石衬底最后一道工序，需要用到抛光垫+纳米氧化硅抛光液来收光，呈现平坦无暇的镜面效果。; http://www.jzdz-wx.com/Article/lbscdymysm_1.html

[行业资讯]纳米氧化硅抛光液的特点[ 2022-11-18 16:10 ]: 纳米二氧化硅抛光液由高纯纳米氧化硅SiO2等多种复合材料配置而成，通过电解法或离子交换法制备成纳米抛光液，硅抛光液磨料分散性好，具有高强度、高附着力、成膜性好、高渗透、高耐候性、高耐磨性等特点，是一种性能优良的CMP抛光材料。广泛应用于金属或半导体电子封装抛光工艺中。吉致电子硅抛光液，CMP抛光slurry应用范围：1、可用于微晶玻璃的表面抛光加工中。2、用于硅片的粗抛和精抛以及IC加工过程，适用于大规模集成电路多层化薄膜的平坦化加工。3、用于晶圆的后道CMP清洗等半导体器件的加工过程、平面显示器、多; http://www.jzdz-wx.com/Article/nmyhgpgydt_1.html

[吉致动态]吉致电子纳米氧化硅抛光液的特点[ 2022-08-19 15:29 ]: 吉致电子纳米氧化硅抛光液的特点:1，可提高工件抛光速率和平坦度加工质量，氧化硅抛光液采用高纯纳米二氧化硅（SiO2）磨料及多种复合材料配置而成，不会对工件造成物理损伤，抛光率高。2，利用均匀分散的胶体二氧化硅粒子颗粒达到高速抛光的目的。3，硅溶胶纯度高，抛光液不腐蚀设备，无毒无害使用安全性能高。4，可实现高平坦化加工。5，有效减少抛光后的表面划痕，降低表面粗糙度。吉致电子通过科学工艺分散均匀的氧化硅颗粒，得到均匀分散的纳米抛光液，具有高强度、高附着力、成膜性好、高渗透、高耐磨性等特点，是一种性能优良的CMP技术用的; http://www.jzdz-wx.com/Article/jzdznmyhgp_1.html

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