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[行业资讯]吉致电子1um/3um/6um/7μm/9μm金刚石抛光液和研磨液[ 2023-12-26 16:43 ]

吉致电子金刚石抛光液/研磨液包括单晶抛光液、多晶抛光液和类多晶抛光液。金刚石研磨液分为水基和油基两类。吉致电子1um/3um/6um/7μm/9μm金刚石抛光液金刚石抛光液浓度高，金刚石粒径均匀，悬浮液分散充分。其特点是不结晶、不团聚，磨削力强，抛光效果好。可以满足高硬度材料、精密的微小元器件、高质量表面要求的材料抛光需求。金刚石抛光液采用优质金刚石微粉，结合吉致专利配方工艺，调配的CMP专用抛光液可最大限度的提高切削力和抛光效率。在实际使用中工件研磨速率稳定，材料去除率高

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[吉致动态]吉致电子--单晶金刚石研磨液的用途[ 2023-10-20 13:47 ]

吉致电子单晶金刚石研磨液是由单晶金刚石微粉、水/油等液体配制而成的CMP研磨液，可有效提高切削力和抛光效率。单晶金刚石硬度大、抗磨损性能好，具有良好的导热性能和耐高温性能，能够在高温高压环境下保持稳定的物理和化学性质。吉致电子生产的单晶金刚石研磨液 / 单晶金刚石抛光液 / 单晶金刚石悬浮液产品可广泛应用于半导体、集成电路、光学仪器，精密陶瓷，硬质合金，LED显示屏等多种领域。溶剂一般分为水基，油基，润滑基，酒精基。金刚石研磨液粒度：1μm，3μm，6μm，9μm （也可定制0.25μm

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[吉致动态]CMP抛光液---纳米氧化铈抛光液的优点[ 2023-03-03 09:15 ]

通常化学机械研磨抛光工艺使用的CMP抛光液有金刚石抛光液、氧化硅抛光液、氧化铝抛光液及氧化铈抛光液（又称稀土抛光液）。纳米氧化铈为水性液体是吉致电子采用先进的分散工艺，将纳米氧化铈粉体分散在水相介质中，形成高度分散化、均匀化和稳定化的纳米氧化铈水性悬浮液。1.在抛光材料应用中，纳米CeO2抛光液相对硅溶胶，具有抛光划伤少、抛光速度快、易清洗良品率高等优势，且PH中性，使用寿命长、对抛光表面污染小，不易风干。2.在抛光军用红外激光硅片、异型硅、超薄硅片方面上，尤其是抛光超薄硅片，纳米氧化铈

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[常见问题]什么是单一磨料的CMP抛光液？[ 2022-08-31 16:11 ]

单一磨料抛光液化学机械CMP抛光液在研究初期大多是使用单一磨料，如氧化铝抛光液（Al2O3）、二氧化硅抛光液（SiO2）、二氧化铈抛光液（CeO2）、氧化锆抛光液（ZrO2）和金刚石抛光液等。其中研究应用最多的是Al2O3、SiO2和CeO2磨料抛光液。氧化铝抛光液--Al2O3的硬度高，多用于蓝宝石、碳化硅、光学玻璃、晶体和合金材料的抛光，但含Al2O3的抛光液会出现选择性低、分散稳定性不好、易团聚的问题，容易在抛光表面造成划伤，一般需要配合各种添加剂使用才能获得良好的抛光表面。氧化硅抛光液--SiO2具有良好的

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[行业资讯]吉致电子--抛光液的主要成分和功能有哪些？[ 2022-07-22 16:52 ]

抛光液的主要成分可分为以下几类:氧化铝抛光液、氧化铈抛光液、金刚石研磨液(聚晶钻石抛光液、单晶金刚石抛光液、纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液、碳化硅抛光液。硅溶胶抛光液(氧化硅抛光液)是以高纯硅粉为原料，通过特殊工艺（如水解法）生产的高纯度低金属离子型抛光产品。广泛应用于多种纳米级材料的高平坦化抛光，如硅晶片、锗晶片、砷化镓、磷化铟等化合物半导体材料、精密光学器件、蓝宝石衬底、蓝宝石窗口等。金刚石抛光液以金刚石微粉为主要成分，高分散配方，硬度高韧性好，有良好的高切削率，不易

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[行业资讯]单晶金刚石与多晶金刚石抛光液的区别[ 2022-06-22 16:16 ]

金刚石抛光液一般分为单晶和多晶（聚晶），都是不规则多面体块状颗粒，制备方式不同抛磨的工件和效果也不同。单晶金刚石抛光液分散性好，尖角利用率较高，硬度高。在研磨过程中可提供大量细小切削刃，降低表面粗糙度，提高工件的去除率，更适合磁头、超硬合金、碳化硅、陶瓷等硬质材料。聚晶金刚石颗粒结构与天然金刚石极为相似，有更多的晶棱和磨削面，有效减少抛光时间。抛磨后工件表面更加柔和，有效减少变形，且用量相对较少。对基材表面要求较高的工件更适合使用聚晶金刚石抛光液。当然，在实

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[行业资讯]吉致电子---金刚石抛光液的作用是什么？[ 2022-06-14 17:03 ]

钻石抛光液又叫金刚石抛光液，由人造金刚石微粉通过特殊工艺制备而成，由于其切削力强，速率快，划痕少，所以广泛应用于硬质工件的抛磨和加工，下面就由吉致电子小编給大家详细介绍一下吉致钻石抛光液的特点和使用吧。金刚石抛光液包括多晶、单晶和纳米抛光液。金刚石抛光液由优质金刚石微粉、复合分散剂和分散介质组成，配方多样，对应不同的研磨抛光工艺和工件，适用性强。吉致的金刚石研磨液产品分散性好，粒度均匀，规格齐全，质量稳定，广泛用于硬质材料的研磨抛光。聚晶金刚石抛光液（又叫多晶钻石抛光液）利用聚晶金刚石的特性，在磨削抛光过程中能保持

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吉致电子抛光材料源头厂家
25年专注CMP抛光材料研发与生产

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