吉致电子金刚石抛光液/研磨液包括单晶抛光液、多晶抛光液和类多晶抛光液。金刚石研磨液分为水基和油基两类。广泛应用于硬质合金材料、半导体硅片、碳化硅晶圆及精密元件等材料的CMP平坦化抛光。

  吉致电子1um/3um/6um/7μm/9μm金刚石抛光液、研磨液浓度高，金刚石粒径均匀，悬浮液分散充分。其特点是不结晶、不团聚，磨削力强，抛光效果好。可以满足高硬度材料、精密陶瓷等微小元器件、高质量表面要求的材料抛光需求。

  金刚石抛光液采用优质金刚石微粉，结合吉致抛光液专利配方工艺，不同粒径金刚石研磨液磨料浓度配比不同，调配的CMP专用抛光液可最大限度的提高切削力和抛光效率。在实际使用中工件研磨速率稳定，材料去除率高，抛光表面一致性好。吉致电子可根据研磨材质和客户需求不同提供定制的产品和研磨解决方案。

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