氮化铝/氮化硅（AlN/SiN）陶瓷基板的研磨抛光，需要用粗抛和精抛两道工艺。粗抛液用来研磨快速去除表面缺陷和不良，精细抛光液用来平坦工件表面提升精度。吉致电子陶瓷专用研磨液/抛光液能减少研磨时间，同时提高陶瓷工件抛光的质量，帮助客户缩短工时提高工作效率。

 陶瓷基板的研磨过程一般包括双面研磨（35-60分钟）和精细抛光（120分钟）。在不到2.5小时的时间里，得到10-15纳米的Ra。

 氮化铝/氮化硅散热衬底抛光方案：①双面研磨（35-60分钟）搭配吉致电子类多晶研磨液 ②超精细抛光(240-480分钟)：纳米金刚石研磨液 + 研磨垫

 吉致电子抛光液厂家，研发生产硬质陶瓷、氮化铝基材、氮化硅基材等提供精密研磨抛光耗材及工艺，为您提供品质CMP抛光配套产品和设备及抛光解决方案，让解决您的抛光难题。

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