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吉致电子:CMP钼金属研磨液,点亮钼材非凡光彩

文章出处:责任编辑:人气:-发表时间:2024-09-29 16:55【

  无锡吉致电子科技有限公司是CMP研磨液抛光垫及CMP抛光耗材研发生产厂家,至今已有 20 余年的研发经验。

  吉致电子CMP产品广泛应用于金属、光电、集成电路半导体、陶瓷、硬盘面板显示器等材质的表面深度处理,目前已发展为集研发、生产、销售于一体的现代工业科技厂家。目前我司生产的钼金属研磨液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光,通过  化学机械平面研磨工艺,使钼金属表面快速去粗和平坦化,过程简单来说就是利用抛光设备将钼金属抛光液化学氧化腐蚀钼合金表面,再通过抛光垫外力研磨去除氧化物部分,得到理想镜面效果,钼合金表面光滑平整,具有易清洗、无残留等特点。

  吉致电子钼金属研磨液适用于平面形态的钼金属、钼合金工件、钼镜抛光(如激光反射镜等),钼cmp产品有微米/纳米级抛光液,钼片抛光后具有均匀镜面效果,磨料颗粒呈悬浮状态,不易分散沉淀,提高 CMP 效率和稳定性,磨料具有硬度高、稳定性好、化学惰性强等特点,可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工。可达到优良的表面平坦度,抛光速率快、良率高、表面均一无缺陷,市场及客户反馈良好,欢迎咨询吉致电子Mo cmp slurry,帮您解决钼片抛光方案。


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