硫系玻璃以硫、硒、碲为主要成分，搭配锗、砷等元素，具备优异的红外透过性能（覆盖8–14 μm大气窗口），是红外夜视、热成像等高端装备核心元件的首选基材。其表面质量直接决定光学系统性能，而化学机械抛光（CMP）是实现硫系玻璃纳米级超光滑、无损伤、高平坦化表面的唯一成熟工艺。吉致电子深耕该领域，自主研发专用CMP抛光液与抛光垫，构建一体化解决方案，为高端红外元件量产提供稳定高效的核心耗材支撑。

一、硫系玻璃CMP抛光液：化学机械协同的核心载体

硫系玻璃脆性大，传统机械抛光易产生划痕与损伤，无法满足粗糙度≤0.5 nm RMS、平面度≤λ/100（λ=633 nm）的严苛要求。吉致电子针对性定制配方，以“精准化学腐蚀+温和机械磨削”为核心，实现高去除率与超光滑表面的平衡，核心优势如下：

1.核心功能：四大价值，解决行业痛点

①纳米级超光滑与平坦化：高效去除前道工序残留缺陷，稳定实现粗糙度0.1–0.5 nm RMS、平面度λ/100，降低红外光散射，提升透过率3%–8%，保障成像清晰。

②化学+机械协同，低损伤高效：采用弱碱/中性体系+专用氧化剂，软化玻璃表层避免崩裂；配伍5–50nm纳米磨料（SiO₂/Al₂O₂/CeO₂）温和磨削，无划痕、无损伤、无崩边，良率达99%以上。

③配方定制化，适配全工序：针对粗抛、精抛、终抛定制差异化配方，粗抛高去除率（≥5 μm/h），精抛低划痕，终抛粗糙度≤0.2nm RMS，适配量产全流程。

④高稳定性与易清洗：添加专用分散稳定剂，磨料分散均匀、批次稳定；抛光后无残留、易清洗，适配自动化生产线，降低后道成本。

2.硫系玻璃抛光液的成分及作用

二、硫系玻璃CMP抛光垫：精密抛光的机械核心

抛光液是CMP工艺的“血液”，抛光垫则是“骨骼”，直接决定抛光效果。吉致电子针对硫系玻璃特性，研发专用CMP抛光垫，采用多孔聚氨酯/复合阻尼布材质，优化微孔与硬度，适配性突出，

1.硫系玻璃抛光垫的作用：四大关键保障抛光稳定性

①均匀储液送液：表面分布微米级微孔（孔隙率70%–90%），稳定储存并输送抛光液，确保加工区域化学环境均匀，避免表面缺陷。

②精准传压，均匀去除：采用邵氏A 50–80适中硬度，兼顾切削力与缓冲性，避免崩裂；优化沟槽设计，实现去除均匀性≥95%，提升平面度一致性。

③高效排屑防污染：微孔与沟槽协同排出碎屑与副产物，避免划痕，保障抛光稳定，延长抛光垫寿命。

④低磨损高适配：高耐磨材质，形变小、寿命长；适配主流CMP设备，匹配φ10–φ300 mm元件，支持试制与量产。

2.硫系玻璃抛光垫类型与适配场景

三、CMP抛光液+CMP抛光垫：一体化解决方案，赋能产业升级

吉致电子抛光液与抛光垫并非简单组合，而是基于硫系玻璃特性+CMP工艺机理深度匹配的一体化方案，平衡腐蚀速率与磨削力、适配粒径与微孔尺寸，彻底解决传统工艺“效率低、良率差、质量不稳”的痛点。

1.典型应用场景

-红外夜视系统：硫系玻璃镜头、棱镜、滤光片；

-红外测温/热成像：窗口片、透镜阵列、红外物镜；

-高端光电装备：红外激光窗口、光谱仪元件；

-相变存储：Ge-Sb-Te薄膜表面平坦化。

2.选择吉致电子的核心优势

自研技术领先：专注红外材料CMP耗材研发，掌握核心配方工艺，性能对标国际一流；

定制化服务：根据客户玻璃组分、元件尺寸、工序要求，定制专属配方与规格；

稳定量产保障：规模化生产+全流程品控，确保批次一致，助力客户降本增效。

无锡吉致电子科技有限公司

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