搜索资讯 - 无锡吉致电子科技有限公司

[吉致动态]半导体抛光垫---吉致电子Suba pad替代[ 2024-12-10 15:14 ]

在半导体硅片、衬底、光学玻璃以及精密陶瓷等材料的加工领域，CMP抛光工艺是至关重要的环节，而CMP抛光垫（CMP Pad）则是这一环节中的关键因素之一。其中，由陶氏公司（Dow）生产的SUBA抛光垫（Suba Pad）备受瞩目。陶氏公司生产的SUBA抛光垫在CMP化学机械研磨方面有着优异的抛光性能，尤其在抛光半导体晶圆方面效果显著。半导体晶圆和衬底是现代集成电路产业的基石，晶圆和衬底表面的平坦度、光洁度等直接影响芯片的性能和质量。SUBA抛光垫凭借其独特的材料和结构，能够使抛光过程达到一

http://www.jzdz-wx.com/Article/bdtpgdjzdz_1.html

[常见问题]CMP抛光液---半导体抛光液种类有哪些[ 2024-08-09 09:01 ]

半导体抛光液种类有哪些？CMP抛光液在集成电路领域的应用远不止晶圆抛光，半导体使用的CMP制程包括氧化层（Oxide CMP）、多晶硅（Poly CMP）、金属层（Metal CMP）。就抛光工艺而言，不同制程的产品需要不同的抛光流程，28nm制程需要12~13次CMP，进入10nm制程后CMP次数将翻倍，达到25~30次。STI CMP Slurry---浅沟槽隔离平坦化 STI浅沟槽隔离技术是用氧化物隔开各个门电路，使各门电路之间互不导通，STI CMP工艺的目标是去除填充在浅沟槽中的

http://www.jzdz-wx.com/Article/cmppgybdtp_1.html

[吉致动态]国际第三代半导体年度盛会--吉致电子半导体抛光耗材受关注[ 2024-01-12 14:10 ]

吉致电子受邀出席第九届国际第三代半导体论坛（IFWS）暨第二十届中国国际半导体照明论坛（SSLCHINA），斩获大会颁发的“品牌力量”奖项。该奖项由IFWS&SSLCHINA组委会颁发，是为发展第三代半导体和半导体照明产业所属领域的优秀企业和优势品牌所创立，获得该奖项是对吉致电子在半导体照明产业领域出色表现的高度认可。后摩尔时代，发展正当时的第三代半导体产业迎来发展机遇。半导体业继往开来进入新的发展阶段，论坛期间氛围热烈，学术报告、行业

http://www.jzdz-wx.com/Article/gjdsdbdtnd_1.html

[常见问题]半导体抛光中铜抛光液和钨抛光液的区别[ 2023-08-18 16:58 ]

常用的半导体抛光液，按抛光对象的不同分W钨抛光液、CU铜抛光液、氧化层抛光液、STI抛光液等。其中铜抛光液slurry主要应用于 130nm 及以下技术节点逻辑芯片的制造工艺，而钨抛光液W slurry则大量应用于存储芯片制造工艺，在逻辑芯片中用量较少。铜抛光液，主要由腐蚀剂、成膜剂和纳米磨料组成。腐蚀剂用来腐蚀溶解铜表面，成膜剂用于形成铜表面的钝化膜，钝化膜的形成可以保护腐蚀剂的进一步腐蚀，并可有效地降低金属表面硬度。除此之外，CMP抛光液中经常添加一些化学试剂以调节PH值，为抛光过程

http://www.jzdz-wx.com/Article/bdtpgztpgy_1.html

[常见问题]半导体抛光---硅片抛光垫怎么选[ 2023-08-08 16:31 ]

硅片抛光涉及到半导体工件的技术加工领域，硅片抛光垫的多孔结构和软性磨料材料，可以适应不同硅片材料的表面结构，达到不同表面加工的需求。在微电子、半导体、光电等领域中，CMP抛光垫的使用越来越广泛，尤其是在制造高性能晶体管、集成电路和MEMS等微纳米器件中，CMP抛光垫的质量和性能至关重要。硅片抛光垫的主要作用有：①使抛光液有效均匀分布至整个加工区域，且可提供新补充的抛光液进行一个抛光液循环；②从工件抛光表面除去抛光过程产生的残留物（如抛光碎屑、抛光碎片等）；③传递材料去除所需的

http://www.jzdz-wx.com/Article/bdtpggppgd_1.html

[行业资讯]什么是OX研磨液?吉致电子氧化层抛光液性能有哪些？[ 2023-04-19 10:08 ]

Oxide slurry 简称OX氧化物研磨液广泛用于氧化层材料的CMP抛光，抛光研磨后达到精准的表面平整度和厚度控制，如Si Wafer晶圆表面的氧化硅层或者上层金属与氧化硅之间的氧化硅层等。吉致电子OX氧化层抛光液适用于4-12英寸氧化硅镀膜片的氧化层抛光液。JEEZ半导体抛光液性能优点：①使用纯度高的纳米抛光磨料，拥有高速率加工能力;②slurry粒径大小均匀因此能获得无缺陷的表面；③ 吉致Oxide slurry 易清洗无残留，对后续工艺影响小。

http://www.jzdz-wx.com/Article/smsoxymyjz_1.html

[行业资讯]半导体抛光液--球型二氧化硅抛光液的用途[ 2022-11-23 15:21 ]

球形硅微粉作为抛光液磨料，可大大提高产品的刚性、耐磨性、耐候性、抗冲击性、耐压性、抗拉性、阻燃性、良好的耐电弧绝缘性和耐紫外线辐射性。让我们来看看球型二氧化硅抛光液在电子芯片中的一些应用。精密研磨粉高纯球形硅粉用于光学器件和光电行业的精密研磨，特别适用于半导体单晶多晶硅片、显像管玻壳玻屏、光学玻璃、液晶显示器(LCD、LED)玻璃基板、压电晶体、化合物半导体材料(砷化镓、磷化铟)、磁性材料等半导体行业的研磨抛光。吉致电子用高纯球形硅粉制备成的超高纯硅溶胶抛光液slurry,

http://www.jzdz-wx.com/Article/bdtpgyqxey_1.html

[应用案例]半导体抛光液---陶瓷覆铜板DPC抛光液/DBC研磨液[ 2022-11-18 14:46 ]

吉致电子陶瓷覆铜板研磨液/DPC抛光液/DBC研磨液通常有粗抛和精抛两道工艺，根据客户对工件抛磨要求和表面粗糙度不同，选择不同的DPC研磨液或精抛液。陶瓷覆铜板DPC/DBC的粗抛工艺，主要是快速减薄尺寸，提高抛磨效率。对于质量度要求更高的DPC基板，需要进行二次精抛，达到去除表面缺陷和不良效果的目的，使用吉致电子陶瓷覆铜板研磨液/精抛液后，DPC/DBC基板的表面粗糙度RA值可达0.003μm以下。选择吉致陶瓷覆铜板研磨液/DPC抛光液/DBC研磨液可实现陶瓷基板粗抛、精抛不同阶段效果。经过吉致CMP抛光后，工

http://www.jzdz-wx.com/Article/bdtpgytcft_1.html

[行业资讯]半导体抛光液---半导体材料有哪些？[ 2022-11-17 15:37 ]

半导体业内从材料端分为：第一代元素半导体材料，如硅（Si）和锗(Ge)；第二代化合物半导体材料：如砷化镓（GaAs）、磷化铟（InP）等；第三代宽禁带材料：如碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）、氮化铝（ALN）、氧化镓（Ga2O3）等。碳化硅（SiC）和氮化镓（GaN）、氮化铝（ALN）、氧化镓（Ga2O3）等，因为禁带宽度大于2.2eV统称为宽禁带半导体材料，在国内也称为第三代半导体材料。其中碳化硅和氮化镓是目前商业前景最明朗的半导体材料，堪称半导体产业内新一代“黄金赛道&

http://www.jzdz-wx.com/Article/bdtpgybdtc_1.html

[客户感言]半导体抛光液国产平替----射频滤波器抛光液[ 2022-09-19 16:00 ]

我们是广东一家半导体厂商，主要是做射频滤波器件的，制程其中有一道CMP工艺要用到抛光液等耗材。近几年随着国家半导体事业的发展，很多物料遭受国外卡脖子限制，就算能买回来不仅价格高，交期也要很久。海外采购过程费时费力费钱，导致我们一直以来都是看国外厂商的脸色，最近也是痛下决心要国产化替代。期间测试了很久，也试了很多家厂商，测试的结果总是不理想，最主要的是在台阶选择比上的体现。一筹莫展之际，找到了吉致电子科技有限公司！贵司的服务和产品效果也是让我大吃一惊，期间送样测试也是免费的，

http://www.jzdz-wx.com/Article/bdtpgygcpt_1.html

[常见问题]半导体抛光液是什么？[ 2022-09-15 15:51 ]

半导体抛光液是什么？简单来说抛光液是通过化学机械反应，去除半导体工件表面的氧化层，达到光洁度和高平坦要求的化学液体。半导体CMP抛光液是超细固体研磨材料和化学添加剂的混合物，制备成均匀分散的悬浮液，起到研磨、润滑和腐蚀溶解等作用，主要原料包括研磨颗粒、PH调节剂、氧化剂和分散剂等。抛光液的分类：根据酸碱性可以分为：酸性抛光液和碱性抛光液、中性抛光液。根据抛磨材质可以分为：金属抛光液和非金属抛光液。根据抛光对象不同，抛光液可分为铜抛光液、钨抛光液、硅抛光液和钴抛光液等。其中，铜抛光液和钨抛

http://www.jzdz-wx.com/Article/bdtpgyssm_1.html

[吉致动态]吉致电子---氧化硅抛光液的特点和作用[ 2022-08-04 14:54 ]

氧化硅抛光液的主要成分是高纯二氧化硅粉为，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光液。氧化硅溶液其实就是市面上的硅溶胶，当然是二次加工后的硅溶胶。因为硅溶胶是胶状的，不能直接研磨抛光。这项技术的主要应用是CMP半导体抛光。该技术在相对早期阶段就已存在，但市场应用范围较窄。氧化硅外观为乳白色悬浮液，呈碱性、中性、酸性。一般时间长了不会有沉淀，但是暴露在空气中很快就会结晶，有一定的腐蚀性。不锈钢工件在二氧化硅环境中容易生锈，抛光工件时应及时清洗掉二氧化硅溶液。&n

http://www.jzdz-wx.com/Article/jzdzyhgpgy_1.html

吉致电子抛光材料源头厂家
25年专注CMP抛光材料研发与生产

相关搜索

吉致热门资讯

吉致电子抛光材料 源头厂家 25年 专注CMP抛光材料研发与生产

相关搜索

吉致热门资讯

吉致电子抛光材料源头厂家
25年专注CMP抛光材料研发与生产